シリコンターゲット材

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出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：須田正義 , 村澤彰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-250555
公開番号（公開出願番号）：特開2018-104745
特許番号：特許第6764335号
出願日： 2016年12月26日
公開日（公表日）： 2018年07月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】長方形板状のターゲット材の表面に設計上スパッタリングされない仮想領域として、前記ターゲット材の幅方向の中央に長手方向に延びる溝部が形成されたシリコンターゲット材であって、前記溝部の幅(W2)がこの溝部のコーナ部の口元を含む幅であり、前記溝部の幅(W2)が前記ターゲット材の幅(W1)を100%とするとき20%〜38%であり、前記溝部のコーナ部が湾曲面に形成され、前記コーナ部の口元の曲率半径(R1)が1.0mm以上3.3mm以下であることを特徴とするシリコンターゲット材。

IPC (1件)：