特許
J-GLOBAL ID:202003007152197576
プロセスカートリッジ及び画像形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人中川国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-224735
公開番号(公開出願番号):特開2020-086354
出願日: 2018年11月30日
公開日(公表日): 2020年06月04日
要約:
【課題】記憶部の大容量化に対応するとともに、外部部材と記憶部との衝突に伴う記憶部の破損を抑制することができるプロセスカートリッジを提供する。【解決手段】プロセスカートリッジ1において、枠体102と、枠体102に取り付けられたメモリユニット111と、枠体102において、メモリユニット111が取り付けられた第一壁面121から、第一壁面121に対する法線方向に突出する基板座面123に取り付けられ、メモリユニット111と電気的に接続される電気接点部112と、を備える。【選択図】図5
請求項(抜粋):
画像形成装置に着脱可能なプロセスカートリッジにおいて、
枠体と、
前記枠体に取り付けられ、前記プロセスカートリッジに関する情報を記憶する記憶部と、
前記枠体において、前記記憶部が取り付けられた取付面から、前記取付面に対する法線方向に突出する突出部に取り付けられ、前記記憶部と電気的に接続される電気接点部と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
IPC (1件):
FI (2件):
G03G21/18 153
, G03G21/18 178
Fターム (27件):
2H171FA02
, 2H171FA05
, 2H171GA12
, 2H171GA31
, 2H171JA23
, 2H171JA35
, 2H171JA50
, 2H171JA51
, 2H171KA05
, 2H171KA17
, 2H171KA22
, 2H171KA23
, 2H171MA02
, 2H171MA07
, 2H171MA20
, 2H171QA02
, 2H171QA08
, 2H171QB03
, 2H171QB15
, 2H171QB32
, 2H171QC03
, 2H171SA10
, 2H171SA12
, 2H171SA19
, 2H171SA22
, 2H171SA26
, 2H171SA31
引用特許:
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