特許
J-GLOBAL ID:202003007656353501
磁気記憶装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
日向寺 雅彦
, 小崎 純一
, 市川 浩
, 白井 達哲
, 内田 敬人
, 竹内 功
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-215736
公開番号(公開出願番号):特開2020-088013
出願日: 2018年11月16日
公開日(公表日): 2020年06月04日
要約:
【課題】記憶密度が向上できる磁気記憶装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、磁気記憶装置は、第1絶縁部、第2絶縁部、第3絶縁部、第1導電部材、第1磁性素子及び第2磁性素子を含む。前記第1絶縁部から前記第3絶縁部に向かう第1方向において前記第2絶縁部は、前記第1絶縁部と前記第3絶縁部との間にある。前記第1導電部材は、前記第1絶縁部の少なくとも一部と前記第3絶縁部の少なくとも一部との間に設けられる。前記第1磁性素子は、前記第1絶縁部と前記第2絶縁部との間に設けられる。前記第1導電部材から前記第1磁性素子への方向は、前記第1方向と交差する第3方向に沿う。前記第2磁性素子は、前記第2絶縁部と前記第3絶縁部との間に設けられる。前記第1導電部材から前記第2磁性素子への方向は、前記第3方向に沿う。前記第1絶縁部の材料は、前記第2絶縁部の材料とは異なる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1絶縁部と、
第2絶縁部と、
第3絶縁部であって、前記第1絶縁部から前記第3絶縁部に向かう第1方向において前記第2絶縁部は、前記第1絶縁部と前記第3絶縁部との間にある、前記第3絶縁部と、
前記第1絶縁部の少なくとも一部と前記第3絶縁部の少なくとも一部との間に設けられた第1導電部材と、
前記第1絶縁部と前記第2絶縁部との間に設けられた第1磁性素子であって、前記第1導電部材から前記第1磁性素子への方向は、前記第1方向と交差する第3方向に沿う、前記第1磁性素子と、
前記第2絶縁部と前記第3絶縁部との間に設けられた第2磁性素子であって、前記第1導電部材から前記第2磁性素子への方向は、前記第3方向に沿う、前記第2磁性素子と、
を備え、
前記第1絶縁部の材料は、前記第2絶縁部の材料とは異なる、磁気記憶装置。
IPC (4件):
H01L 21/823
, H01L 27/105
, H01L 43/08
, H01L 29/82
FI (3件):
H01L27/105 447
, H01L43/08 Z
, H01L29/82 Z
Fターム (22件):
4M119AA08
, 4M119BB01
, 4M119BB03
, 4M119CC05
, 4M119CC10
, 4M119EE03
, 4M119JJ04
, 5F092AA15
, 5F092AB06
, 5F092AC26
, 5F092AD25
, 5F092BB04
, 5F092BB05
, 5F092BB22
, 5F092BB30
, 5F092BB31
, 5F092BB33
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB42
, 5F092BC03
, 5F092CA03
引用特許:
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