特許
J-GLOBAL ID:202003007777770878
有機デバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 清水 義憲
, 三上 敬史
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-105108
公開番号(公開出願番号):特開2017-212127
特許番号:特許第6744130号
出願日: 2016年05月26日
公開日(公表日): 2017年11月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 一方向に延在する支持基板上に、第1電極層、有機機能層及び第2電極層がこの順番で配置された有機デバイス部を有する有機デバイスの製造方法であって、
前記第2電極層を形成する工程では、前記支持基板上に設けられたアライメントマークの少なくとも一部上を含むように、前記第2電極層を前記一方向に沿って連続的に形成し、
前記第2電極層を形成した後の工程において、前記支持基板の前記第2電極層が形成された一方の主面とは反対側の他方の主面側から、前記アライメントマークを検出する、有機デバイスの製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/04
引用特許: