特許
J-GLOBAL ID:202003007811576350

水素含有試料の水素分布の3次元イメージング方法、及び水素含有試料の水素分布の3次元イメージング測定システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 川北 喜十郎 ,  藤田 正広
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-138194
公開番号(公開出願番号):特開2020-017365
出願日: 2018年07月24日
公開日(公表日): 2020年01月30日
要約:
【課題】試料へのダメージを抑えつつ、比較的短時間に高い位置分解能で物質中の水素分布を3次元のイメージとして取得することが可能な測定システムを提供する。【解決手段】8MeV以上10MeV以下のエネルギーに加速された質量数4のヘリウムイオンのマイクロビームをX-Y方向に走査しつつ、水素含有試料に照射して、前記マイクロビームに含まれる質量数4のヘリウムとの衝突により前記水素含有試料からマイクロビームの進行方向に弾き出された質量数1の透過反跳水素のエネルギーを検出する。検出された前記質量数1の透過反跳水素のエネルギーと、走査される前記マイクロビームの位置とに基づいて、前記水素含有試料の水素分布の3次元位置情報を取得する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
水素含有試料の水素分布の3次元イメージング測定システムであって、 ヘリウムイオンを生成するイオン源と、 前記イオン源から出射されるヘリウムイオンを加速する加速器と、 前記加速器から出射される加速されたヘリウムイオンビームが照射される、前記水素含有試料を収容する試料チャンバ、及び、前記加速器と前記試料チャンバとを繋ぐビームダクトを備えるビーム輸送システムと、 前記加速されたヘリウムイオンビームの進行方向に垂直な断面の面積を絞って、ヘリウムイオンのマイクロビームを形成するマイクロビーム形成機構と、 前記マイクロビームを前記進行方向に垂直な面内に走査する走査装置と、 前記試料チャンバに配置されて、前記マイクロビームが前記水素含有試料に照射された際に、前記マイクロビームに含まれるヘリウムとの衝突により前記水素含有試料から前記進行方向に弾き出された質量数1の透過反跳水素のエネルギーを検出する透過反跳水素計測装置と、を備え、 前記加速器は、前記イオン源から出射される質量数4のヘリウムイオンを8MeV以上のエネルギーに加速可能であり、 前記透過反跳水素計測装置は、前記検出された質量数1の前記透過反跳水素のエネルギーと、前記走査装置によって走査される前記マイクロビームの、前記水素含有試料における前記進行方向に垂直な前記面内の位置とに基づいて、前記水素含有試料の水素分布の3次元位置情報を取得することを特徴とする水素含有試料の水素分布の3次元イメージング測定システム。
IPC (6件):
H01J 37/252 ,  H05H 5/06 ,  H01J 37/317 ,  H01J 37/22 ,  H01J 37/244 ,  G01N 23/225
FI (7件):
H01J37/252 B ,  H05H5/06 ,  H01J37/317 D ,  H01J37/22 502H ,  H01J37/22 502Z ,  H01J37/244 ,  G01N23/2255
Fターム (23件):
2G001AA05 ,  2G001BA14 ,  2G001CA05 ,  2G001DA02 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001KA01 ,  2G001KA05 ,  2G001LA02 ,  2G001LA05 ,  2G001MA05 ,  2G001NA01 ,  2G085AA01 ,  2G085EA06 ,  5C033NN10 ,  5C033QQ13 ,  5C033QQ15 ,  5C034DD01 ,  5C034DD05 ,  5C034DD09

前のページに戻る