特許
J-GLOBAL ID：202003008235214703

熱処理装置

発明者：
中谷 淳司

中谷 淳司 について

, 
巌 敏和

巌 敏和 について

, 
森本 章太郎

森本 章太郎 について


出願人/特許権者：
光洋サーモシステム株式会社

光洋サーモシステム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人ブライタス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-233827
公開番号（公開出願番号）：特開2020-094766
出願日： 2018年12月13日
公開日（公表日）： 2020年06月18日
要約：
【課題】熱処理装置において、被処理物に熱処理を行うワークエリアの各部における温度分布をより均等にする。【解決手段】熱処理装置1は、熱処理用ガスが流入する風上部7、および、処理用ガスが流出する風下部5を含み、風上部7と風下部5との間に被処理物100が配置されるワークエリア4と、風下部5を通してワークエリア4内の熱処理用ガスを吸引する吸込口17と、風下流量調整部6と、を有している。風下流量調整部6は、風下部5において、吸込口17に相対的に近い近位部27における熱処理用ガスの流量を、吸込口17に相対的に遠い遠位部28における熱処理用ガスの流量よりも小さく設定するように構成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
加熱された熱処理用ガスが流入する風上部、および、前記熱処理用ガスが流出する風下部を含み、前記風上部と前記風下部との間に被処理物が配置されるワークエリアと、 前記風下部を通して前記ワークエリア内の前記熱処理用ガスを吸引する吸込口と、 前記風下部において、前記吸込口に相対的に近い近位部における前記熱処理用ガスの流量を、前記吸込口に相対的に遠い遠位部における前記熱処理用ガスの流量よりも小さく設定するように構成された風下流量調整部と、 を備えていることを特徴とする、熱処理装置。
IPC (4件)：
F27B 5/16 ,  F27D 7/02 ,  F27D 19/00 ,  F27B 5/14
FI (4件)：
F27B5/16 ,  F27D7/02 A ,  F27D19/00 D ,  F27B5/14
Fターム (22件)：
4K056AA09 ,  4K056BA02 ,  4K056BB06 ,  4K056CA18 ,  4K056FA02 ,  4K061AA01 ,  4K061BA00 ,  4K061CA08 ,  4K061DA05 ,  4K061FA11 ,  4K061GA02 ,  4K061GA04 ,  4K063AA05 ,  4K063AA12 ,  4K063AA15 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063DA01 ,  4K063DA13 ,  4K063DA15 ,  4K063DA26 ,  4K063DA32
引用特許：
審査官引用 (6件)
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