特許
J-GLOBAL ID：202003008279238421
放射性フッ素標識化合物の製造方法及び放射性医薬組成物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人翔和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-151375
公開番号（公開出願番号）：特開2020-033341
出願日： 2019年08月21日
公開日（公表日）： 2020年03月05日
要約：
【課題】従来法と同等以上の放射性フッ素化率を達成しつつ、製造時間を短縮した放射性フッ素標識化合物の製造方法及び該化合物を含有する放射性医薬組成物の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の放射性フッ素標識化合物の製造方法は、放射性フッ化物イオンと標識前駆体化合物とを溶剤存在下に反応させる放射性フッ素化工程を備え、本工程は、溶剤を蒸散させながら行う。溶剤はプロトン性溶媒と非プロトン性溶媒とを含むことが好適である。前記工程は開放系で反応させることも好適である。前記工程は、放射性フッ化物イオンと標識前駆体化合物と溶剤とを反応容器に収容して、該イオンと該化合物とを反応させ、その状態下で反応容器内に気体を導入するか、又は該容器内を減圧して、蒸散した溶剤を反応容器外に排出することも好適である。本発明は、前記方法によって製造された放射性フッ素標識化合物を含有する放射性医薬組成物の製造方法も提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
放射性フッ化物イオンと標識前駆体化合物とを溶剤存在下に反応させる放射性フッ素化工程を備え、
前記放射性フッ素化工程を、前記溶剤を蒸散させながら行う、放射性フッ素標識化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07D 233/91
, C07D 401/14
, C07H 19/073
C07D233/91
, C07D401/14
, C07H19/073
4C057BB02
, 4C057CC02
, 4C057DD03
, 4C057LL14
, 4C057LL19
, 4C063AA03
, 4C063BB01
, 4C063CC26
, 4C063DD12
, 4C063EE10
