特許
J-GLOBAL ID：201503004495124508

合成装置および反応モジュール

発明者：
猪野 宣人

猪野 宣人 について

, 
平野 圭市

平野 圭市 について


出願人/特許権者：
日本メジフィジックス株式会社

日本メジフィジックス株式会社 について

, 
エヌ・エム・ピイビジネスサポート株式会社

エヌ・エム・ピイビジネスサポート株式会社 について


代理人 (2件)： 右田 俊介 ,  栗田 由貴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-009283
公開番号（公開出願番号）：特開2015-137248
出願日： 2014年01月22日
公開日（公表日）： 2015年07月30日
要約：
【課題】放射性標識化合物の製造プロセスのうち加熱または除熱を伴う工程において反応容器の内部温度を均一にすることが可能な合成装置を提供する。【解決手段】合成装置は反応容器10の内部で放射性標識化合物RCを合成する装置であり、反応モジュール90はこの合成装置に用いられる。反応モジュール90(合成装置)は、反応容器10を保持する保持キャップ20と、反応容器10の表面にノズル開口32より気流を吹き付けて反応容器10を加熱または除熱するガスブローノズル30と、を備えている。ガスブローノズル30のノズル開口32は、保持キャップ20に保持された反応容器10の外周面12と底面14との間の底周縁部16に臨んで配置されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反応容器の内部で放射性標識化合物を合成する合成装置であって、 前記反応容器を保持する保持部と、前記反応容器の表面にノズル開口より気流を吹き付けて前記反応容器を加熱または除熱するガスブローノズルと、を備え、 前記ノズル開口が、前記保持部に保持された前記反応容器の外周面と底面との間の底周縁部に臨んで配置されていることを特徴とする合成装置。
IPC (3件)：
C07B 59/00 ,  B01J 19/24 ,  A61K 51/00
FI (3件)：
C07B59/00 ,  B01J19/24 Z ,  A61K49/02 A
Fターム (20件)：
4C085HH03 ,  4C085KA29 ,  4C085KB07 ,  4C085KB20 ,  4C085KB78 ,  4G075AA14 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BA10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075DA02 ,  4G075EA07 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4G075EC25 ,  4G075ED01 ,  4H006AA04 ,  4H006AC84 ,  4H006BD81
引用特許：
審査官引用 (5件)
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