特許
J-GLOBAL ID：202003008623677553
めっき膜形成方法及び液体噴射ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人つばさ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-040106
公開番号（公開出願番号）：特開2017-155294
特許番号：特許第6719232号
出願日： 2016年03月02日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を洗浄液に浸漬して洗浄する洗浄工程と、
前記基板を無電解めっき液に浸漬し前記基板を周波数が10Hz〜200Hz(但し、10〜60Hz及び100〜200Hzを除く)の低周波で前記基板の露出面と平行方向に振動させて前記基板の露出面にめっき膜を形成する無電解めっき工程と、を備えるめっき膜形成方法。
IPC (4件)：
C23C 18/31 ( 200 6.01)
, B41J 2/16 ( 200 6.01)
, B41J 2/14 ( 200 6.01)
, C23C 18/18 ( 200 6.01)
C23C 18/31 Z
, B41J 2/16 517
, B41J 2/14 303
, B41J 2/16 303
, B41J 2/16 507
, C23C 18/18
