特許
J-GLOBAL ID：202003009536512501
プラズマスキュー制御のための遠隔プラズマ源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-047504
公開番号（公開出願番号）：特開2016-195104
特許番号：特許第6715621号
出願日： 2016年03月10日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理チャンバに結合されるプラズマ源であって、前記プラズマ源は、
第1軸に沿って第1端部から第2端部まで延在するコアエレメントと、
前記コアエレメントの一又は複数の第1部分の各々の周囲に配設された一又は複数のコイルと、
前記コアエレメントの第2部分の周囲に配設された環状プラズマ生成容積を少なくとも部分的に取り囲む一又は複数の内壁を有するプラズマブロックとを備え、前記環状プラズマ生成容積は、
前記第1軸に沿って位置決めされた第1の点で前記第1軸に垂直な複数の垂直軸の周りに対称な第1領域を含み、前記第1領域は、
前記第1軸に平行な方向の幅、並びに前記第1軸から垂直な方向の奥行きを有し、前記第1領域の前記幅は、前記第1軸上に位置決めされた前記第1の点からの前記奥行きが増大するにつれて、増大し、
前記垂直軸の1つと内壁との交点に配置された中心点を有し、前記中心点は前記第1軸上に位置決めされた前記第1の点からの第1の奥行きであり、
一又は複数の前記内壁上の第1の場所と第2の場所との間の第1の幅を有し、前記第1の幅は前記第1軸に平行で、前記第1の幅は前記第1軸上に位置決めされた前記第1の点からの第2の奥行きであり、
前記第2の奥行きと前記第1の奥行きとの間の距離に広がる第3の奥行きを有し、前記第1の幅は前記第3の奥行きよりも少なくとも3倍大きく、前記第1の幅は前記環状プラズマ生成容積の最大幅である、
プラズマ源。
IPC (5件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, C23C 16/50 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
H05H 1/46 L
, C23C 16/50
, H01L 21/31 C
, H01L 21/205
, H01L 21/302 101 C
