特許
J-GLOBAL ID:202003010036615108
基板搬送装置および塗布装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
振角 正一
, 大西 一正
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-232181
公開番号(公開出願番号):特開2020-096063
出願日: 2018年12月12日
公開日(公表日): 2020年06月18日
要約:
【課題】下方から浮力を与えて基板を支持するステージへの基板の搬送をスムーズに行い、基板の搬送不良や損傷を防止することのできる技術を提供する。【解決手段】本発明に係る基板搬送装置では、基板Sの搬送方向Dtに直交する水平方向を幅方向とするとき、基板支持ステージ31は、平面視において搬送ローラとは幅方向に異なる位置で搬送方向における最上流側端部が少なくとも搬送ローラ212の回転軸の位置まで延びる延伸部39を有し、延伸部39の上面は、高さが基板支持面31aと同一かつ基板支持面31aと連続しており、昇降機構により上部位置に位置決めされた搬送ローラ212が、平面視において基板Sの先頭部Saが搬送ローラ212の回転軸よりも下流位置に到達するまで基板Sを搬送し、その後に、昇降機構が搬送ローラ212を下部位置へ下降させることで、基板Sを搬送ローラSから基板支持ステージ31に受け渡す。【選択図】図6
請求項(抜粋):
基板を水平姿勢で搬送する基板搬送装置において、
前記基板を下方から支持しつつ回転することにより前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、
前記基板の搬送方向において前記搬送ローラの下流側に隣接して配置された水平な平坦面である基板支持面を有し、前記搬送部により搬送された前記基板を受け入れて、前記基板支持面から気体を吐出させ前記基板に下方から浮力を与えつつ支持する基板支持ステージと、
前記搬送ローラを昇降させて、前記基板支持ステージの上面よりも前記搬送ローラの上端が上方となる上部位置と、前記基板支持ステージの上面よりも前記搬送ローラの上端が下方となる下部位置との間で前記搬送ローラを移動させる昇降機構と
を備え、前記搬送方向に直交する水平方向を幅方向とするとき、
前記基板支持ステージは、平面視において前記搬送ローラとは前記幅方向に異なる位置で前記搬送方向における最上流側端部が少なくとも前記搬送ローラの回転軸の位置まで延びる延伸部を有し、前記延伸部の上面は、高さが前記基板支持面と同一で、かつ前記基板支持面と連続しており、
前記昇降機構により前記上部位置に位置決めされた前記搬送ローラが、平面視において前記基板の前記搬送方向の先頭部が前記搬送ローラの回転軸よりも前記搬送方向の下流位置に到達するまで前記基板を搬送し、その後に前記昇降機構が前記搬送ローラを前記下部位置へ下降させることで、前記基板を前記搬送ローラから前記基板支持ステージに受け渡す基板搬送装置。
IPC (4件):
H01L 21/677
, B65G 49/06
, B05C 5/02
, B05C 13/00
FI (4件):
H01L21/68 A
, B65G49/06 Z
, B05C5/02
, B05C13/00
Fターム (22件):
4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA05
, 4F041CA02
, 4F041CA16
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042DF10
, 4F042DF19
, 4F042DF25
, 4F042DF34
, 5F131AA02
, 5F131AA03
, 5F131AA32
, 5F131CA07
, 5F131DA33
, 5F131DA34
, 5F131DA42
, 5F131DC15
, 5F131DC19
, 5F131DC22
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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