特許
J-GLOBAL ID：202003011877934840

研磨パッド及びそれを有する研磨装置

発明者：
鈴木 恵友

鈴木 恵友 について

, 
加藤 侑也

加藤 侑也 について


出願人/特許権者：
国立大学法人九州工業大学

国立大学法人九州工業大学 について


代理人 (3件)： 中前 富士男 ,  清井 洋平 ,  来田 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-213708
公開番号（公開出願番号）：特開2020-078850
出願日： 2018年11月14日
公開日（公表日）： 2020年05月28日
要約：
【課題】研磨作業の効率化を図ることが可能な研磨パッド及びそれを有する研磨装置を提供する。【解決手段】被研磨物Wの研磨に用いられる研磨パッド10において、基材11と、砥粒12を担持した状態で基材11に保持された繊維13とを備える。そして、被研磨物Wに接触する加工面15が設けられた研磨パッド10を有して、被研磨物Wを研磨する研磨装置20において、研磨パッド10は、加工面15に開口部16を形成する空隙14が内側に設けられた基材11と、砥粒12を担持した状態で基材11に保持された繊維13とを有し、研磨によって生じた研磨くずを空隙14経由で吸い込む吸引手段22を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被研磨物の研磨に用いられる研磨パッドにおいて、基材と、砥粒を担持した状態で前記基材に保持された繊維とを備えることを特徴とする研磨パッド。
IPC (5件)：
B24B 37/24 ,  B24B 37/00 ,  B24B 55/06 ,  B24B 57/02 ,  H01L 21/304
FI (7件)：
B24B37/24 E ,  B24B37/24 Z ,  B24B37/00 K ,  B24B55/06 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 622F ,  H01L21/304 621B
Fターム (40件)：
3C047FF08 ,  3C047GG08 ,  3C047HH01 ,  3C047HH12 ,  3C158AA07 ,  3C158AA09 ,  3C158AC04 ,  3C158AC05 ,  3C158CA04 ,  3C158CB03 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EA26 ,  3C158EB01 ,  3C158EB06 ,  3C158EB09 ,  3C158EB10 ,  3C158EB28 ,  3C158EB29 ,  5F057AA03 ,  5F057AA14 ,  5F057AA21 ,  5F057AA24 ,  5F057BA11 ,  5F057BB01 ,  5F057BB09 ,  5F057BB12 ,  5F057BC06 ,  5F057BC09 ,  5F057CA11 ,  5F057EA01 ,  5F057EB02 ,  5F057EB05 ,  5F057EB07 ,  5F057EB10 ,  5F057EB11 ,  5F057EB30 ,  5F057FA42 ,  5F057FA50
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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