特許
J-GLOBAL ID：202003012273930436

計測方法、計測装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

発明者：
辻川 卓朗

辻川 卓朗 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-062488
公開番号（公開出願番号）：特開2017-173747
特許番号：特許第6719246号
出願日： 2016年03月25日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の外縁に設けられた基準部分に対する前記基板上に配列されたパターン領域の回転ずれ量を計測する計測方法であって、 前記基板を回転させながら前記基準部分の位置を検出している間に、前記基板上に配列されたパターン領域にある対象物を含む対象領域を撮像して第1画像を取得する工程と、 前記基板を静止させた状態で前記対象物を撮像して第2画像を取得する工程と、 前記第2画像を前記第1画像を用いて補正して前記第1画像と前記第2画像との差分を示す第3画像を取得する工程と、 前記第3画像に基づいて前記対象物の位置を求め、求められた前記対象物の位置に基づいて前記基準部分に対する前記パターン領域の回転ずれ量を求める工程と、 を有することを特徴とする計測方法。
IPC (5件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G01B 11/26 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01) ,  G03F 9/00 ( 200 6.01)
FI (6件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D ,  G01B 11/26 H ,  H01L 21/68 F ,  G03F 9/00 H
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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