特許
J-GLOBAL ID：202003012631602918

反射型マスク及び反射型マスクの製造方法

発明者：
小寺 豊

小寺 豊 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 廣瀬 一 ,  宮坂 徹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-139542
公開番号（公開出願番号）：特開2018-010192
特許番号：特許第6743539号
出願日： 2016年07月14日
公開日（公表日）： 2018年01月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板と、 前記基板の一方の面に形成され、凸パターン及び該凸パターンの間に形成された凹パターンを有する多層反射膜と、 前記基板の裏面に形成された裏面導電膜と、 前記多層反射膜の前記基板対向面と逆側の面に形成された犠牲膜と、 を備え、 前記基板は、前記凹パターンから露出するおもて面に、3000nm以下のピッチで形成された複数の凸部を有する 反射型マスク。
IPC (2件)：
G03F 1/24 ( 201 2.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 1/24 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/20 503
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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