特許
J-GLOBAL ID：202003012986963482

仕切り構造

発明者：
高田 貴司

高田 貴司 について

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山田 恭平

山田 恭平 について

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吉岡 祐策

吉岡 祐策 について

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内田 裕二

内田 裕二 について


出願人/特許権者：
中国電力株式会社

中国電力株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-224759
公開番号（公開出願番号）：特開2020-084710
出願日： 2018年11月30日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：
【課題】従来公知の仕切り構造をそのまま用いて施工することができ、しかもこの従来公知の仕切り構造よりも仕切り構造全体の鉛直方向高さが高い新規な仕切り構造を提供する。【解決手段】基礎地盤P上に載置して用いられる仕切り構造であって、中心軸を鉛直方向に配しながら基礎地盤P上に載置される複数の中空管2と、この中空管内に充填される充填物3と、下端8b側が充填物3内に埋設され、上端8a側が中空管2の上部開口2aから導出されている支柱8と、この支柱8の下端8b側に設けられ、平板状又は塊状をなす基礎10aと、支柱8に直接又は間接的に取設されている第1の仕切り材5aと、を備えていることを特徴とする仕切り構造1Aによる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基礎地盤上に載置して用いられる仕切り構造であって、 中心軸を鉛直方向に配しながら前記基礎地盤上に載置される複数の中空管と、 前記中空管内に充填される充填物と、 下端側が前記充填物内に埋設され、上端側が前記中空管の上部開口から導出されている支柱と、 前記支柱の前記下端側に設けられ、平板状又は塊状をなす基礎と、 前記支柱に直接又は間接的に取設されている第1の仕切り材と、を備えていることを特徴とする仕切り構造。
IPC (2件)：
E04H 17/16 ,  E01F 7/02
FI (3件)：
E04H17/16 104 ,  E01F7/02 ,  E04H17/16 105Z
Fターム (9件)：
2D001PA07 ,  2D001PD05 ,  2E142AA01 ,  2E142AA05 ,  2E142EE01 ,  2E142HH12 ,  2E142HH14 ,  2E142HH22 ,  2E142JJ01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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