特許
J-GLOBAL ID:202003012991037626
中空シリカ粒子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-170343
公開番号(公開出願番号):特開2020-040858
出願日: 2018年09月12日
公開日(公表日): 2020年03月19日
要約:
【課題】シリカ殻を有する中空粒子であって、分散時に可視光透過性を有し、平均粒子径が数10nmであるもの、さらにその平均粒子径が均一である中空シリカ粒子の製造方法を提供することである。【解決手段】分子量1000以上の水溶性の少なくとも1種類の高分子電解質と、少なくとも1種類の水溶性無機塩と、アンモニア水溶液を含む混合物を、アルコール中に分散し、混合物からなるテンプレート粒子を形成する第1工程と、テンプレート粒子の外表面に、シリコンアルコキシド化合物のゾルゲル反応によるシリカ殻を形成してシリカコーティング粒子とする第2工程と、シリカコーティング粒子内部のテンプレート粒子を水に溶解させて除去する第3工程と、を備えることを特徴とする中空シリカ粒子の製造方法である。【選択図】図2
請求項(抜粋):
分子量1000以上の水溶性の少なくとも1種類の高分子電解質と、少なくとも1種類の水溶性無機塩と、アンモニア水溶液を含む混合物を、アルコール中に分散し、前記混合物からなるテンプレート粒子を形成する第1工程と、
前記テンプレート粒子の外表面に、シリコンアルコキシド化合物のゾルゲル反応によるシリカ殻を形成してシリカコーティング粒子とする第2工程と、
前記シリカコーティング粒子内部の前記テンプレート粒子を水に溶解させて除去する第3工程と、を備えることを特徴とする中空シリカ粒子の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (38件):
4G072AA27
, 4G072BB05
, 4G072BB07
, 4G072BB13
, 4G072BB16
, 4G072CC10
, 4G072DD06
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072JJ28
, 4G072JJ41
, 4G072KK03
, 4G072LL06
, 4G072LL11
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072MM03
, 4G072MM22
, 4G072MM23
, 4G072PP17
, 4G072QQ09
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072RR15
, 4G072SS02
, 4G072SS06
, 4G072SS12
, 4G072TT01
, 4G072TT02
, 4G072TT06
, 4G072TT08
, 4G072TT30
, 4G072UU07
, 4G072UU11
, 4G072UU17
, 4G072UU25
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