特許

J-GLOBAL ID：202003014175232324

遠隔プラズマ流動性CVDチャンバの方法および装置

発明者： マ, イン ,  ラージ, ダエミアン ,  シーモンズ, マーティン ジェイ ,  ポカレル, アンキット ,  チッカノフ, グレッグ ,  チャン, イチェン ,  リャン, チンメイ ,  ピンソン, ジェイ ディー., ザ セカンド ,  リー, トンチン ,  ロチャ-アルヴァレス, フアン カルロス
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-543366
公開番号（公開出願番号）：特表2020-507929
出願日： 2018年02月13日
公開日（公表日）： 2020年03月12日
要約：

本明細書で開示される実施形態は、一般に、プラズマ処理システムに関する。プラズマ処理システムは、処理チャンバ、チャンバシーズニングシステム、および遠隔プラズマ洗浄システムを含む。処理チャンバは、処理領域とプラズマ領域を画定するチャンバ本体を有する。チャンバシーズニングシステムは、処理チャンバに結合されている。チャンバシーズニングシステムは、処理領域とプラズマ領域をシーズニングするように構成されている。遠隔プラズマ洗浄システムは、処理チャンバと連通している。遠隔プラズマ洗浄システムは、処理領域とプラズマ領域を洗浄するように構成されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理領域およびプラズマ領域を画定するチャンバ本体を有する処理チャンバと、 前記処理チャンバに結合されたチャンバシーズニングシステムであって、前記処理領域および前記プラズマ領域をシーズニングするように構成されたチャンバシーズニングシステムと、 前記処理チャンバと連通する遠隔プラズマ洗浄システムであって、前記処理領域および前記プラズマ領域を洗浄するように構成された遠隔プラズマ洗浄システムと、 を備えるプラズマ処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/509

FI (2件)：

H01L21/31 C ,  C23C16/509

Fターム (16件)：

4K030FA01 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045BB14 ,  5F045DC62 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EB11 ,  5F045EC07 ,  5F045EF05 ,  5F045EF07 ,  5F045EF09 ,  5F045EH06 ,  5F045EH12 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 容量結合プラズマを使用する半導体処理システムおよび方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2013-549429   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 成膜装置及び成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-022626   出願人：東京エレクトロン株式会社