特許
J-GLOBAL ID:202003015175660250
アフォーカルビーム調整アセンブリを用いて透明被加工物をレーザ加工するための装置及び方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
柳田 征史
, 坂野 博行
, 高橋 秀明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-511225
公開番号(公開出願番号):特表2020-531392
出願日: 2018年08月24日
公開日(公表日): 2020年11月05日
要約:
透明被加工物をレーザ加工するための方法は:上記透明被加工物内に輪郭線を形成するステップ;及び赤外線ビーム源によって出力された赤外線レーザビームを、アフォーカルビーム調整アセンブリを通して上記透明被加工物上に、上記輪郭線に沿って配向して、上記透明被加工物を上記輪郭線に沿って分割するステップを含む。上記赤外線レーザビームは、上記透明被加工物の表面上に、環状赤外線ビームスポットを形成する。上記赤外線レーザビームは、上記アフォーカルビーム調整アセンブリの上流の入口ビーム直径と、上記アフォーカルビーム調整アセンブリの下流の出口ビーム直径とを含む。上記環状赤外線ビームスポットは、内径、外径、及び環状部分厚さを含む。更に、上記アフォーカルビーム調整アセンブリは、1つ以上の調整可能な光学素子を含む。更に、上記1つ以上の調整可能な光学素子を調整することにより、上記出口ビーム直径が変化し、これにより、上記環状赤外線ビームスポットの上記環状部分厚さが変化する。
請求項(抜粋):
透明被加工物をレーザ加工するための方法であって、
前記方法は:
前記透明被加工物内に輪郭線を形成するステップであって、前記輪郭線は、前記透明被加工物内の欠陥を含む、ステップ;及び
赤外線ビーム源によって出力された赤外線レーザビームを、アフォーカルビーム調整アセンブリを通して前記透明被加工物上に、前記輪郭線に沿って又は前記輪郭線の付近に配向して、前記透明被加工物を前記輪郭線に沿って分割するステップ
を含み、
前記赤外線レーザビームは、前記透明被加工物の表面上に、環状赤外線ビームスポットを形成し;
前記赤外線レーザビームは、前記アフォーカルビーム調整アセンブリの上流の入口ビーム直径と、前記アフォーカルビーム調整アセンブリの下流の出口ビーム直径とを備え;
前記環状赤外線ビームスポットは、内径、外径、及び環状部分厚さを備え;
前記アフォーカルビーム調整アセンブリは、1つ以上の調整可能な光学素子を備え;
前記1つ以上の調整可能な光学素子のうちの少なくとも1つを調整することにより、前記赤外線レーザビームの前記出口ビーム直径が変化し、これにより、前記透明被加工物の前記表面上に形成される前記環状赤外線ビームスポットの前記環状部分厚さが変化する、方法。
IPC (5件):
C03B 33/09
, B23K 26/073
, B23K 26/00
, B23K 26/53
, B23K 26/064
FI (5件):
C03B33/09
, B23K26/073
, B23K26/00 N
, B23K26/53
, B23K26/064 A
Fターム (16件):
4E168AD18
, 4E168AE02
, 4E168CB03
, 4E168CB07
, 4E168DA02
, 4E168DA23
, 4E168DA26
, 4E168DA39
, 4E168DA46
, 4E168EA13
, 4E168JA14
, 4E168JA15
, 4E168KA04
, 4G015FA06
, 4G015FB01
, 4G015FC14
引用特許:
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