特許
J-GLOBAL ID：202003016130081166
高分子化合物用除去材、高分子化合物の除去装置、高分子化合物の除去方法、及び高分子化合物の再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀山 夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-210215
公開番号（公開出願番号）：特開2020-075410
出願日： 2018年11月08日
公開日（公表日）： 2020年05月21日
要約：
【課題】サポート材が十分に除去できるとともに、除去作業時間の短いサポート材の除去方法を提供する。【解決手段】サポート材除去方法200は、三次元造形物Xからサポート材SPを除去して、モデル材を取り戻すためのものであり、洗浄液CLに三次元造形物Xを浸漬する浸漬工程210と、サポート材を融解させるサポート材融解工程220と、洗浄槽10においてサポート材SPと洗浄液CLとを分離する洗浄槽分離工程230と、洗浄槽10から液をオーバーフローさせるオーバーフロー工程240と、洗浄槽10から出た液を回収槽50にて回収する回収工程250と、回収槽50においてサポート材SPと洗浄液CLとを分離する回収槽分離工程260と、分離されたサポート材SPを回収するサポート材回収工程270と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
高分子化合物が付着したワークから前記高分子化合物を除去する高分子化合物の除去方法であって、
浸漬槽に貯留する第1液に対して前記高分子化合物が付着した前記ワークを浸漬する第1浸漬工程と、
前記第1液の中において前記高分子化合物を融解させる高分子化合物融解工程と、
密度差を利用して前記高分子化合物と前記第1液とを前記浸漬槽において分離する浸漬分離工程と、
前記高分子化合物融解工程を経た前記ワークを第2液に浸漬する第2浸漬工程と、を備え、
前記高分子化合物は、三次元造形物用のワックス系のサポート材であり、
前記ワークは、三次元造形物用のモデル材であり、
前記高分子化合物融解工程における前記第1液の温度は、前記高分子化合物は融解する一方前記モデル材は融解しない範囲であり、
前記高分子化合物は前記第1液に対して不溶であり、
前記第1液は、界面活性剤と、水と、を含み、
前記第2液は、後洗浄剤と、水と、を含み、
前記後洗浄剤は、アミノ基を有する物質を有することを特徴とする高分子化合物の除去方法。
IPC (3件)：
B29C 64/35
, B29C 64/357
, B29C 64/40
B29C64/35
, B29C64/357
, B29C64/40
4F213AR06
, 4F213AR15
, 4F213WA25
, 4F213WA54
, 4F213WA67
, 4F213WA83
, 4F213WA92
, 4F213WB01
, 4F213WL02
, 4F213WL29
, 4F213WL55
, 4F213WL67
, 4F213WL87
, 4F213WL96
, 4F213WW06
, 4F213WW15
, 4F213WW31
, 4F213WW38
