特許

J-GLOBAL ID：202003017399339441

塗布方法

発明者： 吉田 省吾 ,  小椋 浩之 ,  吉田 隆一 ,  ▲高▼橋 保夫
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (5件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸 ,  杉谷 知彦 ,  栗原 要 ,  青野 信喜
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-133479
公開番号（公開出願番号）：特開2018-001114
特許番号：特許第6764713号
出願日： 2016年07月05日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 300cP以上の高粘度薬液を円形基板上に供給して前記円形基板上に薬液膜を形成する塗布方法であって、 前記円形基板を第1回転速度で回転させ、かつ、前記円形基板の上方に位置する薬液ノズルを前記円形基板の半径方向に移動させながら、前記薬液ノズルから前記円形基板上に薬液を吐出することで、前記円形基板上のほぼ全面に渦巻き状の薬液膜を形成する工程と、 前記渦巻き状の薬液膜を形成した後に、前記薬液ノズルから前記円形基板の中心部に薬液を吐出することで、前記円形基板の中心部に薬液の液溜まりを形成する工程と、 前記薬液の液溜まりを形成した後に、前記第1回転速度よりも速い第2回転速度で前記円形基板を回転させることで、前記液溜まりの薬液を広げて前記渦巻き状の薬液膜を覆わせて前記渦巻き状の薬液膜の表面を平らにする工程と、 を備えることを特徴とする塗布方法。

IPC (3件)：

B05D 1/40 ( 200 6.01) ,  B05D 3/00 ( 200 6.01) ,  B05D 1/36 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 B ,  B05D 3/00 D ,  B05D 1/36 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第5931230号
  
• レジスト塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-287113   出願人：ミツミ電機株式会社
• 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-242100   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 処理液塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-333157   出願人：大日本スクリーン製造株式会社