特許
J-GLOBAL ID：202003018504744990

炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法

発明者：
大久保 敬

大久保 敬 について

, 
高森 清人

高森 清人 について


出願人/特許権者：
国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について


代理人 (4件)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ ,  伊佐治 創 ,  南野 研人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-234763
公開番号（公開出願番号）：特開2020-002119
出願日： 2018年12月14日
公開日（公表日）： 2020年01月09日
要約：
【課題】本発明は、炭化水素またはその誘導体を原料として、気相中で前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。【解決手段】 前記目的を達成するために、本発明の酸化反応生成物の製造方法は、原料および化合物ラジカルを反応させる反応工程を含み、前記原料が、炭化水素またはその誘導体であり、前記化合物ラジカルが、16族元素と、17族元素とを含むラジカルであり、前記反応工程の反応系が、気相を含む反応系であり、前記気相が、前記原料および前記化合物ラジカルを含み、前記反応工程において、前記原料が酸化され、前記原料の酸化反応生成物を生成することを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
原料および化合物ラジカルを反応させる反応工程を含み、 前記原料が、炭化水素またはその誘導体であり、 前記化合物ラジカルが、16族元素と、17族元素とを含むラジカルであり、 前記反応工程の反応系が、気相を含む反応系であり、 前記気相が、前記原料および前記化合物ラジカルを含み、 前記反応工程において、前記原料が酸化され、前記原料の酸化反応生成物を生成することを特徴とする酸化反応生成物の製造方法。
IPC (10件)：
C07C 29/50 ,  C07C 31/04 ,  C07C 51/215 ,  C07C 53/02 ,  C07C 53/08 ,  C07C 31/08 ,  C07C 31/10 ,  C07C 53/122 ,  C07C 45/33 ,  C07C 49/08
FI (10件)：
C07C29/50 ,  C07C31/04 ,  C07C51/215 ,  C07C53/02 ,  C07C53/08 ,  C07C31/08 ,  C07C31/10 ,  C07C53/122 ,  C07C45/33 ,  C07C49/08 A
Fターム (10件)：
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC44 ,  4H006AC47 ,  4H006BA95 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H006FE11
引用特許：
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • Comparisons Between the Reactivity of Chlorine Dioxide in the Gas Phase and Water Solution

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