特許
J-GLOBAL ID:202003019039327038
積層構造
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
小島 清路
, 平岩 康幸
, 鈴木 勝雅
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-126798
公開番号(公開出願番号):特開2018-002494
特許番号:特許第6735164号
出願日: 2016年06月27日
公開日(公表日): 2018年01月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 無機化合物を含む基部の1面側に形成される積層構造であって、ムライトを含む第1層と、REを希土類元素とした場合に、RE2Si2O7で表される希土類ダイシリケート化合物及びRE2SiO5で表される希土類モノシリケート化合物を含む第2層とが接合されてなり、
前記第2層は、前記希土類ダイシリケート化合物を含む母相と、該母相の中に分散された、前記希土類モノシリケート化合物を含む分散相とからなることを特徴とする積層構造。
IPC (4件):
C04B 41/87 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
, B32B 18/00 ( 200 6.01)
, C04B 41/89 ( 200 6.01)
FI (5件):
C04B 41/87 M
, B32B 9/00 A
, B32B 18/00 A
, C04B 41/87 F
, C04B 41/89 A
引用特許:
前のページに戻る