藤大雪

トウダイセツ | Toh Daisetsu

所属機関・部署：
職名：助教

研究分野 (1件)：加工学、生産工学

競争的資金等の研究課題 (5件)：

論文 (33件)：

Yasuhisa Sano, Yuma Nakanishi, Masaaki Oshima, Shunto Iden, Jumpei Yamada, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi. Dicing Process for 4H-SiC Wafers by Plasma Etching Using High-Pressure SF<sub>6</sub> Plasma with Metal Masks. Materials Science Forum. 2024. 1124. 51-55
D. Toh, K. Takeda, K. Kayao, Y. Ohkubo, K. Yamauchi, Y. Sano. Ultra-precision smooth surface on polymer material prepared by catalyst-referred etching. International Journal of Automation Technology. 2024. 18. 2. 240-247
Shotaro Matsumura, Iori Ogasahara, Masafumi Miyake, Taito Osaka, Daisetsu Toh, Jumpei Yamada, Makina YABASHI, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. High-pressure plasma etching up to 9 atm toward uniform processing inside narrow grooves of high-precision X-ray crystal optics. Applied Physics Express. 2023
Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. Fabrication of YAG ceramics surface without damage and grain boundary steps using catalyzed chemical wet etching. CIRP Journal of Manufacturing Science and Technology. 2023. 47. 1-6
Daisetsu Toh, Kiyoto Kayao, Pho Van Bui, Kouji Inagaki, Yoshitada Morikawa, Kazuto Yamauchi, Yasuhisa Sano. Catalyst enhancement approach for improving the removal rate and stability of silica glass polishing via catalyzed chemical etching in pure water. Precision Engineering. 2023. 84. 21-27

MISC (15件)：

櫛川新太, 西岡柚香, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久. 大気圧プラズマによる表面処理を利用した常温接合技術の開発. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
中上元太, 崔泰樹, 藤大雪, 山内和人, 佐野泰久. 水素ガスを用いた大気圧プラズマによる窒化ガリウム基板の高能率エッチング. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
萱尾澄人, 藤大雪, 山田純平, 山内和人, 佐野泰久. 紫外光照射を援用した触媒表面基準エッチング法を用いた窒化ガリウム基板の高能率平滑化. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
藤大雪, Bui Van Pho, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人. 触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶材料表面の作製. 精密工学会学術講演会講演論文集. 2021. 2021A. 115-116
竹田広大, 藤大雪, 佐野泰久, 山内和人. 触媒表面基準エッチング法を用いた高分子材料表面の高精度平坦化手法-ポリカーボネートの加工特性評価-. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2021. 2021

特許 (3件)：

書籍 (2件)：

金属薄膜と超純水を利用した超精密研磨手法の開発
一般社団法人生産技術振興協会生産と技術 Vol.75, No.2 (2023) pp. 106-109 2023
光電気化学反応を利用した環境調和性に優れた高能率GaN表面研磨技術
日本工業出版光アライアンス 2024年5月号

講演・口頭発表等 (1件)：

Fabrication of damage-free atomically smooth SiC surface using water and Ni catalyst
(The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 2019)

学歴 (1件)：

経歴 (1件)：

委員歴 (1件)：

受賞 (4件)：

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藤 大雪