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J-GLOBAL ID:202102212388788183   整理番号:21A0592101

マグネトロンスパッタリングによって得た窒化アルミニウム膜の表面粗さの平滑化【JST・京大機械翻訳】

Smoothing the surface roughness of aluminum nitride films obtained by magnetron sputtering
著者 (4件):
資料名:
巻: 1791  号:ページ: 012034 (6pp)  発行年: 2021年 
JST資料番号: W5565A  ISSN: 1742-6588  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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バルク(BAW)と表面音響波(SAW),例えば共振器,フィルタ,センサなどの無線電子素子で使われる窒化アルミニウム膜をマグネトロンスパッタリングにより製造するとき,膜の大きな表面粗さにより,不規則性に音響波が散乱し,その結果,デバイスの共鳴特性の劣化の結果として問題が生じる。本論文では,クラスタアルゴンイオンのビームによる照射による表面粗さの平滑化により窒化アルミニウム膜の表面品質を改善する可能性を研究した。低エネルギー(10V/原子)アルゴンクラスタイオンの効果は,表面改質,近表面層における残留化学汚染物質の除去,およびエッチング層(<100nm)の超小厚での膜表面の付加的平滑化に導くことを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  質量分析  ,  原子・分子のクラスタ 
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