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J-GLOBAL ID：202102220794895968   整理番号：21A0152680

180nmノードシリコンフォトニクスMPWプラットフォームにおけるOPC開発の予備的ラウンド【JST・京大機械翻訳】

Preliminary Round of OPC Development in 180nm node Silicon Photonics MPW platform

著者 (6件)： Huang Zengzhi (United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China) ,  Zheng Zhenguo (Mentor Graphics Corporation,Shanghai,China) ,  Chen Shijie (United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China) ,  Feng Junbo (United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China) ,  Huang Weiran (United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China) ,  Cao Guowei (United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： IWAPS  ページ： 1-3  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンフォトニックは,通信,データセンタ相互接続,LiDAR,光センシングおよび量子コンピューティングのような様々な応用における可能な技術となっている。しかし,多くの研究グループまたはファブルス企業は,CMOS技術と互換性があるシリコンフォトニクスデバイスの製造施設へのアクセスを欠いている。マルチプロジェクトウエハ(MPW)サービスは,それらのための一致可能な解決策である。光学近接補正(OPC)はシリコンフォトニクスMPWプラットフォームに不可欠である。本論文では,CUMECの180nmノードシリコンフォトニクスMPWプラットフォームにおける予備的なOPC開発努力を紹介した。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *互換性 ,  相互接続 ,  データセンタ ,  生産設備 ,  量子計算
準シソーラス用語： *シリコンフォトニクス ,  CMOS技術 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： ノード ,  シリコンフォトニクス ,  プラットフォーム ,  OPC ,  開発