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J-GLOBAL ID:202102222631118755   整理番号:21A0011440

CAEとXceptionを用いた不均衡ウエハ画像データのための欠陥検出モデル【JST・京大機械翻訳】

A Defect Detection Model for Imbalanced Wafer Image Data Using CAE and Xception
著者 (4件):
資料名:
巻: 2020  号: IDSTA  ページ: 28-33  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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現代社会における技術開発は,消費者が新しい需要を創造する原因となっている。そして,消費者の需要は製品品質の改善につながる。特に,モバイル時代に入ると,半導体技術の開発は電子製品にとって必須である。エレクトロニクスでは,半導体は様々な精密部品として使用され,製品の性能を制御する。したがって,半導体の収量の向上は半導体企業にとって最も面倒な仕事である。半導体製造産業では,半導体ウエハ欠陥が大きな損失を引き起こす主要な問題である。多くのプロセスを含む半導体製造において,ウエハ欠陥は様々な変化を引き起こし,大きな損失をもたらす。欠陥を正確に同定し,分類することは,半導体製造産業に大きな利益をもたらす。ウエハ欠陥検査は専門家により受動的に行われている。このような受動的および人的資源は,機械学習を通して防止できる。本論文では,ウエハ欠陥検出と分類を進めるために,X知覚を用いた深層学習ベースモデルを提案した。開始は合計36の畳み込み層を持ち,主に3つの流れから成る。さらに,データセットの不均衡問題を解決するために,データ増強を畳込み自動符号器を用いて実行した。提案方法を通して,データ不均衡の問題を解決する間,ウエハ欠陥の検出と分類を改善することができた。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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図形・画像処理一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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