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J-GLOBAL ID:202102223761831219   整理番号:21A0222190

電子軌道選択的励起によるPt/SiO_x二層膜の固相反応の促進【JST・京大機械翻訳】

Promotion in solid phase reaction of Pt/SiOx bilayer film by electron-orbital-selective-excitation
著者 (6件):
資料名:
巻: 11  号:ページ: 894-898  発行年: 2021年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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熱的に不可能な正の自由エネルギー反応は電子軌道選択的励起によって進行する。Pt/SiO_x二層膜においてSi 2pコア準位が光励起されたとき,原子間Auger遷移による価電子帯に局在化した最終2正孔状態のCoulomb反発はO原子の解離とSi-Pt結合の形成を誘起する。その結果,Pt_2Siケイ化物は正の自由エネルギー反応により形成された。価電子帯の単一粒子励起の下で,ピコ秒秩序に対する2正孔状態の共存の低い確率は,反応の進行を可能にする。Copyright 2021 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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電子分光スペクトル 

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