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J-GLOBAL ID：202102223761831219   整理番号：21A0222190

電子軌道選択的励起によるPt/SiO_x二層膜の固相反応の促進【JST・京大機械翻訳】

Promotion in solid phase reaction of Pt/SiO_x bilayer film by electron-orbital-selective-excitation

著者 (6件)： Yasuda H. (Research Center for Ultra-High Voltage Electron Microscopy, Osaka University, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan. [e-mail]) ,  Sato K. ,  Ichikawa S. ,  Imamura M. ,  Takahashi K. ,  Mori H.
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 11  号： 2  ページ： 894-898  発行年： 2021年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱的に不可能な正の自由エネルギー反応は電子軌道選択的励起によって進行する。Pt/SiO_x二層膜においてSi 2pコア準位が光励起されたとき,原子間Auger遷移による価電子帯に局在化した最終2正孔状態のCoulomb反発はO原子の解離とSi-Pt結合の形成を誘起する。その結果,Pt_2Siケイ化物は正の自由エネルギー反応により形成された。価電子帯の単一粒子励起の下で,ピコ秒秩序に対する2正孔状態の共存の低い確率は,反応の進行を可能にする。Copyright 2021 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 自由エネルギー ,  *固相反応 ,  正孔 ,  *励起 ,  ケイ化物 ,  価電子バンド ,  ピコ秒 ,  内殻準位 ,  二重層 ,  単一粒子 ,  酸素原子 ,  *一酸化ケイ素 ,  *電子軌道
準シソーラス用語： 局在化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子軌道 ,  励起 ,  PT ,  二層膜 ,  固相反応 ,  促進