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J-GLOBAL ID：202102226646719191   整理番号：21A0451853

フーリエ変換赤外分光法による4H-SiCの表面の格子歪みの起源としての残留酸化副産物の物理的分析

Physical analysis of remained oxidation byproducts as the origins of lattice distortion at the surface of 4H-SiC by Fourier-transform infrared spectroscopy

著者 (3件)： HATMANTO Adhi Dwi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HATMANTO Adhi Dwi (Universitas Gadjah Mada, Yogyakarta, IDN) ,  KITA Koji (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： SM  ページ： SMMA02(5pp)  発行年： 2020年07月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ・波数838,1295,1540cm^-1に観察された赤外吸収ピークは,それぞれSi-O曲げ,C-O伸縮,共役C=O非対称伸縮振動に対応。
・これらのピーク強度は熱酸化によって誘発され,Arアニーリングにより減少したSiCの異常に大きな表面歪との良い相関関係を示唆。
・それらは表面歪の導入によって増加し,逆もまた同様。
・表面格子歪みの導入は4H-SiC表面における酸素に関連した構造の形成に起因。
・表面領域からのこれらの構造の分解と除去は,格子緩和の可能な機構を示唆。

シソーラス用語： *FTIR分光法 ,  *炭化ケイ素 ,  赤外吸収スペクトル ,  伸縮振動【分子】 ,  熱酸化 ,  焼なまし ,  歪 ,  構造緩和 ,  *格子歪 ,  副産物
準シソーラス用語： *4H-SiC ,  格子緩和 ,  表面歪

分類 (1件)： 赤外・遠赤外領域の分光法と分光計  (BD07042H)

タイトルに関連する用語 (9件)： フーリエ変換赤外分光法 ,  4H-SiC ,  格子歪み ,  起源 ,  残留 ,  酸化 ,  副産物 ,  物理 ,  分析