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J-GLOBAL ID：202102238395202818   整理番号：21A0167726

蒸発沈着の制御に向けて:基質,溶媒および溶質の効果【JST・京大機械翻訳】

Toward Controlling Evaporative Deposition: Effects of Substrate, Solvent, and Solute

著者 (5件)： Gogoi Prerona (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Guwahati, Assam, India) ,  Chattopadhyay Arun (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology Guwahati, Assam, India) ,  Chattopadhyay Arun (Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Guwahati, Assam, India) ,  Gooh Pattader Partho Sarathi (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Guwahati, Assam, India) ,  Gooh Pattader Partho Sarathi (Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Guwahati, Assam, India)
資料名： Journal of Physical Chemistry B  (Journal of Physical Chemistry B)
巻： 124  号： 50  ページ： 11530-11539  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0921A  ISSN： 1520-6106  CODEN： JPCBFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コロイド懸濁液からの蒸発沈着とそれに対するオンデマンド制御の理解は,その工業的および生物医学的応用により重要である。特に,基板,溶質,および溶媒間の相互作用が蒸発堆積に重要な影響を与えることが知られている。しかし,これらが堆積パターンにいかに影響するか,そして,これらの相互作用が,どのように,これらの相互作用が,詳細調査を必要とするか,である。ここでは,蒸着の全時間(t_d)と液滴の幾何学的形状(L_c=初期フットプリント直径/高さ)が蒸発堆積パターンを決定する際に重要な役割を果たすことを報告する。t_dとL_cに基づく4つの領域を同定し,長い堆積時間(高いt_d)と液滴内の粒子運動に対するより大きな利用可能な空間(高いL_c)で,堆積パターンは基板,溶質と溶媒間の相互作用により支配されることを見出した。また,ピン止め接触線は,ヒステリシスのある場合とない場合の表面上の堆積を比較することによって,「コーヒーリング」効果に不可欠であることを実験的に示した。Marangoni流の効果も議論し,Marangoni流を制御することで,1つは中心堆積で均一なディスク状からコーヒーリングへの液滴堆積を操作できることを示した。Copyright 2021 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 液滴 ,  懸濁液 ,  *蒸発 ,  相互作用 ,  コロイド ,  *基質 ,  コーヒー ,  *溶質 ,  ピン止め ,  蒸着 ,  *沈着 ,  Marangoni対流
準シソーラス用語： 接触線 ,  幾何形状 ,  粒子運動 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固-気界面一般  (CB12041H) ,  蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (5件)： 蒸発 ,  沈着 ,  基質 ,  溶媒 ,  溶質