文献

J-GLOBAL ID：202102244949236682   整理番号：21A0379550

潜在的VUVシンチレータ応用のためのNd3+ドープ20Al(PO_3)_3-80LiFガラスの電気双極子許容4f→ν_25d→4f→ν_3広帯域放射の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigations on the electric-dipole allowed 4f²5d → 4f³ broadband emission of Nd³⁺-doped 20Al(PO₃)₃-80LiF glass for potential VUV scintillator application

著者 (14件)： Empizo Melvin John F. (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Minami Yuki (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Yamanoi Kohei (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Shimizu Toshihiko (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Yoshimura Masashi (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Sarukura Nobuhiko (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Murata Takahiro (Faculty of Advanced Science and Technology, Kumamoto University, 2-40-1 Kurokami, Chuo-ku, Kumamoto 860-8555, Japan) ,  Yamaji Akihiro (Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Miyagi, Japan) ,  Yoshikawa Akira (Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Miyagi, Japan) ,  Guzik Malgorzata (Faculty of Chemistry, University of Wroclaw, u. Joliot-Curie 14, Wroclaw 50-383, Poland) ,  Guyot Yannick (Institut Lumiere Matiere, Univ Lyon, Universite Claude Bernard Lyon 1, CNRS, Villeurbanne 69622, France) ,  Boulon Georges (Institut Lumiere Matiere, Univ Lyon, Universite Claude Bernard Lyon 1, CNRS, Villeurbanne 69622, France) ,  Cadatal-Raduban Marilou (Institute of Laser Engineering, Osaka University, 2-6 Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Cadatal-Raduban Marilou (School of Natural and Computational Sciences, Massey University, Albany, Auckland 0632, New Zealand)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 856  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ネオジム(Nd3+)ドープAPLFガラス[20Al(PO_3)_3-80LiF+xNdF_3,x=0.5~2.0mol%]の,それらの相互配置4f25d遷移による潜在的真空紫外(VUV)シンチレータ材料としての吸収と発光特性を報告した。Nd3+ドープAPLFガラスはVUVから近赤外(NIR)領域への吸収と発光ピークを示し,これはNd3+イオンの異なる配置間4f25dと配置内4f3遷移に対応する。吸収と発光スペクトルの詳細な分析は,Nd3+ドープガラスが非晶質材料から予想されるように無秩序構造と低い対称性を有することを明らかにした。しかし,これらのガラスの最も重要な特徴は,それらの電気双極子が,4f25d→4f3(4I_9/2)広帯域発光を,約187nm(VUV)の逆パリティの2つの構成の間で,約187nm(VUV)の2つの配置の間で,既知のNd3+ドープシンチレータよりも,約187nm(VUV)で高速である。室温(RT)では,約192nmの吸収端は,このVUV発光と重複し,自己吸収が主に発光強度を制限することを示した。この重なりは,低温で作動し,より高い(>2.0mol%)濃度でドーピングすることにより最小化できた。自己吸収の存在にもかかわらず,4f25d励起状態からの高速発光減衰時間はNd3+ドープAPLFガラスを高計数速度高速中性子検出用の有望な新しいVUVシンチレータ材料にした。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ガラス ,  *シンチレータ ,  対称性 ,  低温 ,  発光 ,  発光スペクトル ,  励起状態 ,  *ドーピング ,  近赤外線 ,  自己吸収 ,  *電気双極子 ,  *広帯域 ,  吸収端 ,  発光強度 ,  発光特性

著者キーワード (6件)： アルミニウムリチウムフルオロホスファートガラス ,  Nd3+ドーピング ,  スペクトロスコピー ,  4f→η25dおよび4f→η3配位 ,  VUVシンチレータ ,  中性子検出

分類 (2件)： 無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

タイトルに関連する用語 (10件)： VUV ,  シンチレータ ,  応用 ,  ドープ ,  ガラス ,  電気双極子 ,  許容 ,  広帯域 ,  放射 ,  研究