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J-GLOBAL ID:202102245401402072   整理番号:21A0660320

低圧アルゴンRF放電におけるプラズマ特性に及ぼす自己バイアスの影響に関する流体モデリング

Fluid Modeling on Effect of Self-Bias on Plasma Characteristics in Low Pressure Argon RF Discharges
著者 (4件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: 47-52  発行年: 2020年06月 
JST資料番号: F2220A  ISSN: 1883-5589  CODEN: FAPTBK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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2枚の平行平板電極の間の低圧アルゴンRF放電について,1D流体モデルを構築した。このモデルでは,単純な解析的な式を用いて自己バイアス効果を表現する。モデルは有限差分法により数値的に解く。数値結果を得た。結果の解析から,放電中のプラズマ特性に及ぼす自己バイアスの影響を調べた。自己バイアスのピーク値が0から-40Vに減少すると,放電構造の非対称性が増加することがわかった。しかし,自己バイアスの飽和時間はプラズマ特性に影響しなかった。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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気体放電  ,  プラズマ応用 
引用文献 (17件):
  • D.P.Lymberopoulos and D.J.Economou, “Fluid simulations of glow discharges: Effect of metastable atoms in argon”, J. Appl. Phys. 73, 3668-3679 (1993).
  • Q.Liu, Y.Liu, T. Samir and Z. Ma, “Numerical study of effect of secondary electron emission on discharge characteristics in low pressure capacitive RF argon discharge”, Phys. Plasmas, 21, 083511 (2014).
  • R.Liu, Y.Liu, W.Jia and Y.Zhou, “A comparative study on continuous and pulsed RF argon capacitive glow discharges at low pressure by fluid modeling”, Phys. Plasmas 24, 013517 (2017).
  • R.Liu, Y.Liu, W.Jia and Y.Zhou, “Fluid modeling of plasma dynamics in pulsed RF capacitive glow discharges in low pressure argon”, Phys. Plasmas 24, 083515 (2017).
  • T.Samir, Y.Liu, L.Zhao and Y.Zhou, “Effect of driving frequency on electron heating in capacitively coupled RF argon glow discharges at low pressure”, Chin. Phys. 26, 115201 (2017).
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