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J-GLOBAL ID：202102245627167098   整理番号：21A0150045

レーザスパイクアニールにおけるウエハ配置シフトを監視する新しい方法【JST・京大機械翻訳】

A Novel Methodology to Monitor Wafer Placement Shift in Laser Spike Anneal

著者 (7件)： Gui Yan (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Jiang Lan (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Shen Yaoting (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Dong Qingwei (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Chen Kecheng (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Cheng Xinhua (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314) ,  Fang Jingxun (Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 先進技術ノードのために,レーザアニールは,短チャネル効果を抑制し,デバイス性能を改善するために必要な超浅い低抵抗接合に広く使用されている。しかし,ウエハが適切な位置に置かれないならば,レーザアニールはPPソースドレイン光オーバーレイ残留異常をもたらし,ウエハ破壊さえ引き起こす。本論文では,最初のレーザ走査領域R_s変動範囲制御の測定を含むレーザアニールにおける早期警報ウエハ配置シフトに対する新規方法論を評価し,この方法により,この方法ウエハ破壊比を著しく低減して,生産性を最終的に改善した。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *焼なまし ,  接合 ,  警報 ,  レーザアニーリング ,  短チャネル効果
準シソーラス用語： レーザ走査 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： NMR一般  (BM07041R) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  医用画像処理  (JE04020T)

タイトルに関連する用語 (2件)： ウエハ ,  シフト