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J-GLOBAL ID：202102250617955936   整理番号：21A0040698

効率的な光パターン形成のための阻害されたH-凝集を有する耐疲労架橋アゾ重合体【JST・京大機械翻訳】

Fatigue-Resistant Crosslinked Azopolymers with Inhibited H-Aggregation for Efficient Photopatterning

著者 (3件)： Yue Youfeng (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan) ,  Azumi Reiko (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan) ,  Norikane Yasuo (Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan)
資料名： Chemphotochem  (Chemphotochem)
巻： 4  号： 12  ページ： 5383-5391  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3667A  ISSN： 2367-0932  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 外部刺激,特に光による情報を繰り返し記録する能力は光応答性材料の開発にとって基本的に重要である。ここでは,メタ置換アゾベンゼン(M-アゾ)部分をドデシルグリセリルイタコン酸(DGI)高分子ネットワークに組込む架橋アゾポリマーを用いて,光パターニングシステムを実証した。M-アゾはH-凝集を阻害し,結晶と膜状態で効率的なtrans-to-cis光異性化を示し,架橋重合体の光パターニングを完全に可逆的にした。マクロまたはマイクロスケールのパターニングは,高速応答,高分解能,および柔軟性を有する高分子膜に光を用いて,可逆的に記述され,消去された。さらに,これらの高分子膜は良好な耐疲労性を示し,それは交互UV/Vis照射下でのいかなる減衰も無く,数百回の繰り返し光書き込みと消去試験を可能にした。高い疲労抵抗は,効率的な光異性化の利点を利用して,高分子ネットワークにおいて光エネルギーを化学立体配座に繰り返し収穫し,変換するアゾポリマの能力を示す。Copyright 2021 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *凝集 ,  立体配座 ,  光異性化 ,  柔軟性 ,  疲れ強さ ,  フォトクロミズム ,  高分子膜 ,  高分解能 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： 高速応答 ,  マイクロスケール ,  架橋高分子 ,  アゾポリマ ,  光エネルギー ,  高分子網 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： H-凝集 ,  アゾポリマー ,  疲れ抵抗 ,  フォトクロミズム

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  芳香族単環ヒドロキシルアミン及びヒドラジンその他の芳香族単環多窒素直結化合物  (CF05060O) ,  共重合  (CG04030D)

タイトルに関連する用語 (6件)： パターン形成 ,  阻害 ,  凝集 ,  疲労 ,  架橋 ,  重合体