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J-GLOBAL ID：202102252850329152   整理番号：21A0590084

誘導結合プラズマにおける受動共鳴コイルを用いた局所電子およびイオン密度制御【JST・京大機械翻訳】

Local electron and ion density control using passive resonant coils in inductively coupled plasma

著者 (6件)： Kim Tae-Woo (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Lee Moo-Young (Department of Nanoscale Semiconductor Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Hong Young-Hun (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Lee Moo-Hyun (Department of Nanoscale Semiconductor Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Kim Ju-Ho (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea) ,  Chung Chin-Wook (Department of Electrical Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Republic of Korea)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 30  号： 2  ページ： 025002 (9pp)  発行年： 2021年 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 受動共鳴コイルを用いた局所電子とイオン密度の制御を,誘導アルゴン放電において実験的に調べた。4つの受動共振コイルを,動力コイルの下で設置した。各コイルは扇形と良好な方位角対称性を持つ。Electronエネルギー確率関数と二次元イオン密度プロファイルを共鳴と非共鳴の両領域で測定した。非共鳴では,電流の殆ど全てが反応器の中心に位置する動力コイルを通して流れ,電子とイオン密度のプロファイルは凸である。しかし,共鳴では,受動共振コイルを通る大きな電流流れと劇的な変化が電子とイオン密度プロファイルで観察された。共鳴では,受動共鳴コイル近傍の電子とイオン密度は非共鳴条件に比べて300%増加し,動径分布はほぼ平坦になった。実験結果は,電子とイオン密度プロファイルが低圧(5mTorr)と高圧(50mTorr)の両方で受動共振コイルによって効果的に制御できることを示した。電子とイオン密度プロファイルにおけるこれらの変化は電子加熱とイオン化領域の変化によって理解できる。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン化 ,  *イオン密度 ,  共振 ,  *共鳴 ,  対称性 ,  電流 ,  放電 ,  低圧 ,  アルゴン ,  方位角 ,  反応器 ,  二次元 ,  凸形 ,  扇形 ,  *誘導結合プラズマ

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 誘導結合プラズマ ,  共鳴 ,  電子 ,  イオン ,  密度制御