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J-GLOBAL ID：202102253065000885   整理番号：21A0876703

Ar+H_2S混合ガスで作動する反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリングシステムにおけるプラズマ診断【JST・京大機械翻訳】

Plasma Diagnostics in Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering System Working in Ar + H2S Gas Mixture

著者 (9件)： Hubicka Z. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Cada M. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Kapran A. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Kapran A. (Charles University, Faculty of Mathematics and Physics, V Holesovickach 2, 180 00 Prague, Czech Republic) ,  Olejnicek J. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Ksirova P. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Zanaska M. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Adamek P. (Institute of Physics, Czech Academy of Sciences, Na Slovance 2, 182 00 Prague, Czech Republic) ,  Tichy M. (Charles University, Faculty of Mathematics and Physics, V Holesovickach 2, 180 00 Prague, Czech Republic)
資料名： Coatings (Web)  (Coatings (Web))
巻： 10  号： 3  ページ： 246  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7162A  ISSN： 2079-6412  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ar+H_2Sガス混合物で動作する反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリングシステム(HiPIMS)を硫化鉄薄膜の堆積源として研究した。スパッタリング材料として,純Feターゲットを用いた。この系のプラズマパラメータを時間分解Langmuirプローブ,ラジオ周波数(RF)イオンフラックスプローブ,堆積粒子のイオン化分率の測定用に修正した水晶結晶モニタ,及び発光分光法により調べた。反応性ガスH_2Sの広範囲の質量流量を堆積プロセスの研究に用いた。硫化鉄薄膜の堆積速度は,ターゲットが硫化鉄化合物によって覆われたが,マグネトロン放電に供給されるH_2S反応性ガスの流量によって影響されないことが分かった。堆積粒子のイオン化率は,H_2S,QH_2Sの流量が,反応器室のp1Pa付近のガス圧で0から19sccmに変化するので,r40%からr20%に減少した。基板位置におけるLangmuirプローブで測定した電子濃度nは,QH2Sの1018から1017m3へのこの変化により減少した。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Langmuir探針 ,  X線回折 ,  イオン化 ,  *混合気体 ,  電子密度 ,  薄膜 ,  *プラズマ診断 ,  流量 ,  X線回折分析 ,  硫化鉄 ,  反応器 ,  硫化 ,  堆積速度 ,  監視装置
準シソーラス用語： 水晶 ,  マグネトロン放電 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： HiPIMS ,  Langmuirプローブ ,  発光分光法 ,  時間分解プローブ測定 ,  H_2S電子密度 ,  電子温度 ,  イオン化率 ,  SEM XRD

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (56件)：

• Lichtenberger, D.; Ellmer, K.; Schieck, R.; Fiechter, S. Optical, electrical and structural properties of polycrystalline iron-pyrite (FeS2) layers deposited by reactive DC magnetron sputtering. Appl. Surf. Sci. 1993, 70-71, 583-587.
• Lichtenberger, D.; Ellmer, K.; Schieck, R.; Fiechter, S.; Tributsch, H. Structural, optical and electrical properties of polycrystalline iron pyrite layers deposited by reactive d.c. magnetron sputtering. Thin Solid Film. 1994, 246, 6-12.
• Soni, P.; Raghuwanshi, M.; Wuerz, R.; Berghoff, B.; Knoch, J.; Raabe, D.; Cojocaru-Mirédin, O. Role of elemental intermixing at the In2S3/CIGSe heterojunction deposited using reactive RF magnetron sputtering. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2019, 195, 367-375.
• Baruth, A.; Manno, M.; Narasimhan, D.; Shankar, A.; Zhang, X.; Johnson, M.; Aydil, E.S.; Leighton, C. Reactive sputter deposition of pyrite structure transition metal disulfide thin films: Microstructure, transport, and magnetism. J. Appl. Phys. 2012, 112, 054328.
• Wu, L.; Dzade, N.Y.; Gao, L.; Scanlon, D.O.; Öztürk, Z.; Hollingsworth, N.; Weckhuysen, B.M.; Hensen, E.J.M.; de Leeuw, N.H.; Hofmann, J.P. Enhanced Photoresponse of FeS2 Films: The Role of Marcasite-Pyrite Phase Junctions. Adv. Mater. 2016, 28, 9602-9607.

タイトルに関連する用語 (4件)： 混合ガス ,  反応性 ,  高出力 ,  プラズマ診断