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J-GLOBAL ID:202102261175971888   整理番号:21A0668095

HfO_2とSiN_xゲート誘電体を持つAlGaN/GaN MIS-HEMTにおける界面特性の解析【JST・京大機械翻訳】

Analysis of Interface Properties in AlGaN/GaN MIS-HEMTs with HfO2 and SiNx Gate Dielectric
著者 (6件):
資料名:
巻: 2020  号: ICPES  ページ: 549-552  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,HfO_2とSiN_xゲート誘電体を有するAlGaN/GaNMIS-HEMTの電気信頼性を調べた。SiN_xゲート誘電体を有するデバイスはHfO_2ゲート誘電体を有するデバイスよりも高い電気的安定性を示し,正のゲートバイアスストレス温度(PBST)下で低い閾値電圧ドリフト(ΔV_th)を示した。一方,HfO_2とSiN_xゲート誘電体を有するデバイスに対する平均有効界面障壁エネルギー(E_τ)は0.49eVと1.03eVであった。対応して,HfO_2ゲート誘電体を有するデバイスと比較して,SiN_xゲート誘電体を有するデバイスは,障壁/ゲート誘電体界面にトラップされたチャネルキャリアが低く,これはPBSTの下でSiN_xゲート誘電体を有するAlGaN/GaNMIS-HEMTの高い電気的安定性と一致する。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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