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J-GLOBAL ID：202102269637113520   整理番号：21A1135146

冷間圧延条件下の粗析出物周りの残留応力のマイクロメカニカル解析【JST・京大機械翻訳】

Micromechanical analysis of residual stress around coarse precipitates under cold rolling conditions

著者 (2件)： Park Sung-Jin (Departments of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Tokyo, 152-8552, Japan) ,  Muraishi Shinji (Departments of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Tokyo, 152-8552, Japan)
資料名： Mechanics of Materials  (Mechanics of Materials)
巻： 157  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： E0966A  ISSN： 0167-6636  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高度に配向した勾配を持つ微細等軸結晶粒の特徴的ミクロ組織は,冷間圧延試験片の粗い析出物の周りにしばしば見られる。これらのミクロ組織は冷間圧延とその後の熱処理の下で再結晶核形成サイトと見なされる。析出物近傍の歪および応力擾乱に及ぼす適用歪および析出物形状の影響を予測するために,冷間圧延条件下の不均一性問題を内部および外部点Eshelbyテンソルを用いて解析的に解いた。析出物の周りの応力と歪擾乱は析出物のアスペクト比によって実質的に変化し,応力局所化の領域は圧延方向に平行な析出物の両端での析出物曲率に依存する。残留応力予測は,回転帯の形成が冷間圧延下の擾乱応力の緩和によって引き起こされることを強く示唆した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *残留応力 ,  *析出物 ,  テンソル ,  アスペクト比 ,  *冷間圧延 ,  曲率 ,  応力歪特性 ,  結晶粒 ,  不均一性 ,  回転バンド ,  結晶核形成 ,  圧延方向 ,  力学的解析 ,  特性
準シソーラス用語： 局在化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 残留応力 ,  Eshelby法 ,  不均一性問題 ,  冷間圧延 ,  回転帯

分類 (1件)： 金属材料  (HC03020E)

タイトルに関連する用語 (5件)： 冷間圧延 ,  析出物 ,  残留応力 ,  マイクロ ,  メカニカル解析