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J-GLOBAL ID：202102269720446790   整理番号：21A2308507

TaまたはTiで被覆したプラズマ電極を用いた水素負イオンの抽出【JST・京大機械翻訳】

Extraction of negative hydrogen ions using a plasma electrode covered by Ta or Ti

著者 (3件)： Maeshiro K. (Graduate School of Science and Engineering, Doshisha University, Kyoto, 610-0394, Japan) ,  Wada M. (Graduate School of Science and Engineering, Doshisha University, Kyoto, 610-0394, Japan) ,  Masaki S. (Department of Fusion Science, The Graduate University for Advanced Studies, SOKENDAI, Toki, Gifu 509-5292, Japan)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2373  号： 1  ページ： 100005-100005-7  発行年： 2021年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 抽出した電子電流に対する抽出された負の水素(H-)イオン電流の比に及ぼす負の水素イオン源のプラズマ電極をカバーするTa薄板のタンタル(Ta)フレッシュコーティングの効果を比較した。薄いホットTaフィラメントからの新鮮なTa蒸発は,タングステン(W)ホットフィラメントによる操作と比較して,抽出H-イオン電流の約22%の増加を示した。一方,プラズマ電極を覆う薄いTa箔は,Hイオン電流に大きな影響なしに,抽出された電子電流を減少させた。一方,チタン(Ti)箔がプラズマ電極を被覆したとき,抽出されたH-イオン電流と電子電流の両方が実質的に減少した。プラズマ電位よりも高いプラズマ電極バイアスで,Ti被覆プラズマ電極に対する電子電流に対するHイオン電流の比率は80%を超えた。Copyright 2021 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *プラズマ ,  蒸発 ,  電流 ,  陽子 ,  薄板 ,  *水素 ,  *タンタル ,  *チタン ,  *被覆 ,  *アニオン ,  フィラメント ,  バイアス ,  イオン電流
準シソーラス用語： 電子流 ,  プラズマ電位 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 半導体集積回路  (NC03162T) ,  LCR部品  (NA05030D) ,  電気化学反応  (CB07050F) ,  金属-絶縁体-金属構造  (BM03087F)

タイトルに関連する用語 (3件)： Ta ,  Ti ,  プラズマ