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J-GLOBAL ID:202102273786298394   整理番号:21A2169693

懸垂導波路用のSiO_2薄膜の応力と屈折率制御【JST・京大機械翻訳】

Stress and Refractive Index Control of SiO2 Thin Films for Suspended Waveguides
著者 (4件):
資料名:
巻: 10  号: 11  ページ: 2105  発行年: 2020年 
JST資料番号: U7252A  ISSN: 2079-4991  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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膜応力と屈折率は,懸濁導波路の作製に重要な役割を果たした。Si,Ge,およびAl_2O_3ウエハを含む多重基板上にSiO_2導波路を作製することに成功した。100Cで誘導結合プラズマ化学蒸着を用いて導波路を堆積した。前駆体ガスは,可変流量で1:3と1:9比でSiH_4とN_2Oであった。固有応力の発生を,懸濁SiO_2ブリッジの製作を通して検証し,そこでは,ブリッジの曲率は,測定した固有応力に対応し,厚さ1m以下および長さ50mまで測定した。流速は,50と65MPaの間の膜応力同調性を可能にし,そこでは,負の数はSiO_2の圧縮状態を示す。また,ガス比はUVと可視領域の屈折率にわずかな影響を与えるが,SiO_2ブリッジの応力には影響しないことを見出した。本方法を多層デバイスを製造するために使用できるかどうかを試験するために,各ブリッジ間の空気クラッディングを有するSiO_2ブリッジの3層をシリコン基板上に作製した。犠牲層としての低温堆積(100C)とフォトレジストの組み合わせが,基板と屈折率に依存しない多目的SiO_2ブリッジ製作を可能にし,将来の調整可能な導波路作製のフレームワークを提供すると結論した。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
引用文献 (28件):
  • Yoon Oh, D.; Yang, K.Y.; Fredrick, C.; Ycas, G.; Diddams, S.A.; Vahala, K.J. Coherent ultra-violet to near-infrared generation in silica ridge waveguides. Nat. Commun. 2017, 8, 1-7.
  • Chen, P.; Zhu, Y.; Shi, Y.; Dai, D.; He, S. Fabrication and characterization of suspended SiO_2 ridge optical waveguides and the devices. Opt. Express 2012, 20, 22531.
  • Ghaderi, M.; De Graaf, G.; Wolffenbuttel, R.F. Fabrication of Ultrathin Large-area Dielectric Membrane Stacks for use as Interference Filters. Procedia Eng. 2016, 168, 1342-1345.
  • Nissen, M.; Doherty, B.; Hamperl, J.; Kobelke, J.; Weber, K.; Henkel, T.; Schmidt, M.A. UV absorption spectroscopy in water-filled antiresonant hollow core fibers for pharmaceutical detection. Sensors 2018, 18, 478.
  • Behzadirad, M.; Nami, M.; Rishinaramagalam, A.K.; Feezell, D.F.; Busani, T. GaN nanowire tips for nanoscale atomic force microscopy. Nanotechnology 2017, 28, 20LT01.
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