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J-GLOBAL ID：202102275083787443   整理番号：21A0470052

多孔質基板を用いたレーザー局所加熱法によるガラスの非接触成形技術の開発

著者 (1件)： 岸哲生 (東京工大 物質理工学院)
資料名： 天田財団助成研究成果報告書  (Report of Grant-Supported Researches the Amada Foundation)
巻： 33  ページ： 365-368  発行年： 2020年12月 
JST資料番号： J0694A  ISSN： 2434-0723  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・近年,空中で浮遊させた原料を炭酸ガスレーザで加熱して,非接触で宇井胃液を形成し不均一核生成を抑制しながら急冷して透明なガラスを形成する無容器溶融法が開発。
・筆者らは,これまでにレーザー局所加熱(LLH)法によるガラス微小球作製技術を開発してきたが,本研究ではLLH法においてガラスと基板の安定した非接触状態を実現することを目的に,成形技術の基礎を確立。
・水を含んだ多孔質基板上にレーザー吸収イオンを添加したガラスを載せ,レーザー加熱することによりガラスと基板の間に水蒸気層が形成され,非接触状態を実現。

シソーラス用語： ガラス ,  製造 ,  ミクロスフェア ,  *レーザ加熱 ,  加熱 ,  基板 ,  多孔質体 ,  水蒸気 ,  その場観察 ,  半導体レーザ ,  レーザ照射 ,  *ガラス製造 ,  アルミナ基板 ,  局部加熱
準シソーラス用語： 微小球 ,  *非接触 ,  非接触成形 ,  局所加熱 ,  レーザー局所加熱法 ,  レーザダイオード

分類 (1件)： ガラスの製造  (YC02020O)

引用文献 (11件)：

• 1) A. Masuno, H. Inoue, J. Yu, and Y. Arai, J. Appl.Phys., 108, 1-5 (2010).
• 2) G. A. Rosales-Sosa, A. Masuno, Y. Higo, H. Inoue, Y.Yanaba, T. Mizoguchi, T. Umada, K. Okamura, K.Kato, and Y. Watanabe, Sci. Rep., 5, 15233 (2015).
• 3) Y. Shimotsuma, K. Hirao, J. Qiu, and K. Miura, J.Non. Cryst. Solids, 352, 646-656 (2006).
• 4) T. Komatsu, J. Non. Cryst. Solids, 428, 156-175(2015).
• 5) T. Kishi, T. Kumagai, T. Yano, and S. Shibata, AIPAdv., 2, 042169-1-5 (2012).

タイトルに関連する用語 (6件)： 多孔質 ,  レーザー ,  局所加熱 ,  ガラス ,  非接触 ,  開発