文献

J-GLOBAL ID：202102276080505251   整理番号：21A0518771

低圧容量結合N_2/Arプラズマにおける活性種の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of active species in low-pressure capacitively coupled N₂/Ar plasmas

著者 (4件)： Liang Ying-Shuang (School of Science, University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China) ,  Xue Chan (School of Aerospace Science and Technology, Xidian University, Xi’an 710126, China) ,  Zhang Yu-Ru (Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), School of Physics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China) ,  Wang You-Nian (Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), School of Physics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
資料名： Physics of Plasmas  (Physics of Plasmas)
巻： 28  号： 1  ページ： 013510-013510-14  発行年： 2021年 
JST資料番号： T0641B  ISSN： 1070-664X  CODEN： PHPAEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,容量結合20%N_2-80%Ar放電におけるプラズマパラメータに焦点を当てて,自己無撞着流体モデルを開発した。イオン密度の測定を浮遊二重プローブの助けにより行い,Ar(4p)とN_2(B)遷移からの発光強度を発光分光法で検出し,それらの相対密度を推定した。数値結果と実験結果との整合性は,シミュレーションの信頼性を確認した。次に,プラズマ特性,特に活性種の反応機構を様々な電圧下で解析した。増加する電圧は種密度の単調な増加をもたらすが,より均一な半径方向分布はより高い電圧で観測される。Arガスの高い濃度のため,Ar+は主要なイオンとなり,N_2+イオンが続いた。中性物質の電子衝撃イオン化に加えて,Ar+/N_2とN_2+/Arの電荷移動過程はイオン種に影響を与えることが分かった。結果は,より低い電荷移動反応速度係数を採用することがAr+イオン密度を弱め,より高いN_2+イオン密度をもたらすことを示す。しかし,種の空間分布と他の種密度に対する影響は限られている。励起状態種に関しては,バックグラウンドガスの電子衝撃励起は,Ar(4p),N_2(B),およびN_2(a′)の形成において圧倒的に留まり,一方,N_2(A)分子は,主にN_2(B)の減衰によって形成される。さらに,励起状態Ar原子によって衝突したN_2の解離はN生成を支配し,これは大部分がN+イオンを生成するように枯渇した。Copyright 2021 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  イオン密度 ,  *プラズマ ,  電圧 ,  電荷移動 ,  電子衝突 ,  放電 ,  励起 ,  励起状態 ,  *低圧 ,  *アルゴン ,  反応機構 ,  衝突イオン化 ,  発光分光法
準シソーラス用語： 発光強度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低圧 ,  容量結合 ,  Ar ,  プラズマ ,  活性種 ,  研究