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J-GLOBAL ID:202102292036236063   整理番号:21A0875254

Si(111)基板上に成長させたAlN/GaN分布Bragg反射器に基づくGaN系発光ダイオードの光出力増強【JST・京大機械翻訳】

Light Output Enhancement of GaN-Based Light-Emitting Diodes Based on AlN/GaN Distributed Bragg Reflectors Grown on Si (111) Substrates
著者 (3件):
資料名:
巻: 10  号:ページ: 772  発行年: 2020年 
JST資料番号: U7169A  ISSN: 2073-4352  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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不透明Si基板の吸収により,Si基板上のGaN系発光ダイオード(LED)の発光効率は高くない。そこで,本研究では,有機金属化学蒸着(MOCVD)により成長させたSi(111)基板上のGaN系LEDの光出力を改善するために,AlN/GaN分布Bragg反射器(DBRs)を挿入した。AlN/GaN DBRストップバンドの最高反射率を得るために,成長温度,V/III比および成長圧力を含むAlN/GaN DBRsの成長パラメータを最適化した。結果として,最適9対AlN/GaN DBRsの界面は突然になり,DBR阻止バンドの反射率は85.2%と高く,計算値(92.5%)に近かった。最後に,Si(111)基板上に5対AlN/GaN DBRを有する無亀裂GaN系LEDを成長させた。DBRベースのLEDの光出力は,DBRsのない従来のDBRベースのLEDと比較して,350mAの注入電流で41.8%まで明らかに増強された。これらの結果は,Si基板上に成長した将来の緑色および赤色GaN系LEDの発光効率改善の道を開いた。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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引用文献 (32件):
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