特許

J-GLOBAL ID：202103001255642682

工程チャンバーの内部に配置される基板処理装置及びその作動方法

発明者： キム キ ボム ,  サ スン ヨプ ,  ウ ラム ,  イ ミョン ジン ,  チェ スン デ ,  チェ ジョン ソン ,  ホ ホ ボム
出願人/特許権者： ジュソン エンジニアリング カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-559429
特許番号：特許第6959696号
出願日： 2016年05月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】自転可能に構成されるディスク; 前記ディスクに配置され、上面に基板が装着され、前記ディスクが 自転することによって自転するとともに前記ディスクの中心を軸として公転する少なくとも一つのサセプタ; 前記サセプタの下部に結合し、中心が前記サセプタの中心と一致するように配置される金属リング; 前記ディスクの下部に前記ディスクの中心を基準に放射状に配置され、少なくとも一部が前記金属リングと上下方向に対向するように備えられるマグネット; 及び 前記ディスクを収容する収容部を備えるフレームを含み、 前記マグネットは複数の円筒状のマグネット片が一定間隔で放射状に配置されるように備えられ前記フレームに前記収容部の中心を基準に放射状に回転できないように配置されることを特徴とする、基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  C23C 14/50 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  C23C 14/50 H ,  C23C 16/44 G ,  H01L 21/31 F

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平1-184277
  
• 基板回転装置及び基板回転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-328943   出願人：マテリアルズリサーチコーポレーション, リード-ライトコーポレーション
• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-297504   出願人：日立電線株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平1-184277
  
• 特開平1-184277
  
• 基板回転装置及び基板回転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-328943   出願人：マテリアルズリサーチコーポレーション, リード-ライトコーポレーション
• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-297504   出願人：日立電線株式会社