特許
J-GLOBAL ID：202103001869603969
成膜装置、成膜方法、及び有機EL表示装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人秀和特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-200156
公開番号（公開出願番号）：特開2019-099913
特許番号：特許第6954880号
出願日： 2018年10月24日
公開日（公表日）： 2019年06月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マスクを介して基板に蒸着源からの材料を蒸着することにより成膜を行うための成膜装置であって、
基板の周縁部を支持するための支持部を含む基板保持ユニット、及び
前記支持部の上方に設けられ、基板を吸着するための静電チャックを含み、
前記静電チャックは、電圧を発生させる電源部、前記電圧が印加される電極部、及び前記電極部に印加される前記電圧を制御するための電圧制御部を含み、
前記電圧制御部は、基板を前記静電チャックに吸着させる時に、前記電圧として第1電圧が前記電極部に印加されるように制御し、基板が前記静電チャックに吸着された後、蒸着工程が開始される前に、前記電圧として前記第1電圧よりも低い第2電圧が前記電極部に印加されるように制御する成膜装置。
IPC (6件)：
C23C 14/50 ( 200 6.01)
, C23C 14/04 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 21/683 ( 200 6.01)
C23C 14/50 A
, C23C 14/04 A
, C23C 14/24 J
, C23C 14/24 R
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
, H01L 21/68 R
