特許
J-GLOBAL ID:202103003255157710
積層体及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
及川 周
, 大浪 一徳
, 萩原 綾夏
, 志賀 正武
, 森 隆一郎
, 飯田 雅人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-213843
公開番号(公開出願番号):特開2018-069187
特許番号:特許第6851776号
出願日: 2016年10月31日
公開日(公表日): 2018年05月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材、金属層及び被覆層を備え、これらがこの順に積層されてなり、前記基材の表面に対して平行な方向において、前記金属層の周縁部と、前記被覆層の周縁部と、の位置が一致している領域を有する積層体の製造方法であって、
基材上に金属層を形成する工程と、
前記金属層の、前記基材側とは反対側の表面の一部が露出するように、前記金属層上に前記被覆層を形成する工程と、
前記金属層の表面が露出している露出部位を、この露出部位に隣接する前記被覆層とともに擦過することによって、前記金属層の露出部位のみを前記基材上から除去し、前記基材の前記金属層が形成されていた領域の表面を露出させる工程と、
を有する、積層体の製造方法。
IPC (3件):
H05K 3/28 ( 200 6.01)
, B05D 3/12 ( 200 6.01)
, B32B 15/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05K 3/28 F
, B05D 3/12 E
, B32B 15/04 Z
引用特許: