特許
J-GLOBAL ID：202103003998710685
金属複合体、含窒素多環式化合物、焼成体及びその製造方法、酸素還元触媒、酸素発生触媒、及び、水素発生触媒
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-037053
公開番号（公開出願番号）：特開2021-138645
出願日： 2020年03月04日
公開日（公表日）： 2021年09月16日
要約：
【課題】新規な金属複合体を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されることを特徴とする金属複合体である。[化1]【選択図】図34
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されることを特徴とする金属複合体。
IPC (5件)：
C07D 471/04
, B01J 37/08
, B01J 31/22
, B01J 27/24
, C25B 11/04
C07D471/04 112Z
, B01J37/08
, B01J31/22 M
, B01J27/24 M
, C25B11/06 A
4C065AA07
, 4C065AA19
, 4C065BB09
, 4C065CC09
, 4C065DD02
, 4C065EE02
, 4C065HH01
, 4C065HH05
, 4C065HH08
, 4C065JJ01
, 4C065KK01
, 4C065KK05
, 4C065KK08
, 4C065LL01
, 4C065PP03
, 4C065PP09
, 4C065PP12
, 4C065PP14
, 4G169AA04
, 4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169BA06B
, 4G169BA08A
, 4G169BA08B
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BC30A
, 4G169BC61A
, 4G169BC65A
, 4G169BC66B
, 4G169BC67B
, 4G169BC69A
, 4G169BE08B
, 4G169BE16A
, 4G169BE33B
, 4G169BE37A
, 4G169BE38A
, 4G169BE46B
, 4G169CB81
, 4G169CC40
, 4G169DA05
, 4G169FB30
, 4G169FB34
, 4G169FC07
, 4H050AA01
, 4H050AA03
, 4H050AB40
, 4H050AB84
, 4H050WB14
, 4H050WB21
, 4K011AA63
, 4K011DA01
出願人引用 (2件)
-
金属複合体
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-178163
出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒
-
含窒素多環式化合物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-178162
出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒
審査官引用 (2件)
-
金属複合体
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-178163
出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒
-
含窒素多環式化合物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-178162
出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒
引用文献：
出願人引用 (3件)
-
RESISTRY(STN)[online][検索日:2023.10.4]
-
Intermolecular interactions of extendedaromatic ligands: the synchrotron molecular structures of[Ru(
-
One-Pot, High-Yielding, Oxidative Cyclodehydrogenation Route for N-Doped Nanographene Synthesis
審査官引用 (3件)
-
RESISTRY(STN)[online][検索日:2023.10.4]
-
Intermolecular interactions of extendedaromatic ligands: the synchrotron molecular structures of[Ru(
-
One-Pot, High-Yielding, Oxidative Cyclodehydrogenation Route for N-Doped Nanographene Synthesis
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