特許

J-GLOBAL ID：202103003998710685

金属複合体、含窒素多環式化合物、焼成体及びその製造方法、酸素還元触媒、酸素発生触媒、及び、水素発生触媒

発明者： 林 高史 ,  小野田 晃 ,  松元 香樹 ,  郷田 隼 ,  米原 宏司
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学 ,  株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-037053
公開番号（公開出願番号）：特開2021-138645
出願日： 2020年03月04日
公開日（公表日）： 2021年09月16日
要約：

【課題】新規な金属複合体を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されることを特徴とする金属複合体である。[化1]【選択図】図34

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されることを特徴とする金属複合体。

IPC (5件)：

C07D 471/04 ,  B01J 37/08 ,  B01J 31/22 ,  B01J 27/24 ,  C25B 11/04

FI (5件)：

C07D471/04 112Z ,  B01J37/08 ,  B01J31/22 M ,  B01J27/24 M ,  C25B11/06 A

Fターム (54件)：

4C065AA07 ,  4C065AA19 ,  4C065BB09 ,  4C065CC09 ,  4C065DD02 ,  4C065EE02 ,  4C065HH01 ,  4C065HH05 ,  4C065HH08 ,  4C065JJ01 ,  4C065KK01 ,  4C065KK05 ,  4C065KK08 ,  4C065LL01 ,  4C065PP03 ,  4C065PP09 ,  4C065PP12 ,  4C065PP14 ,  4G169AA04 ,  4G169AA06 ,  4G169AA08 ,  4G169BA06B ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC30A ,  4G169BC61A ,  4G169BC65A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67B ,  4G169BC69A ,  4G169BE08B ,  4G169BE16A ,  4G169BE33B ,  4G169BE37A ,  4G169BE38A ,  4G169BE46B ,  4G169CB81 ,  4G169CC40 ,  4G169DA05 ,  4G169FB30 ,  4G169FB34 ,  4G169FC07 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40 ,  4H050AB84 ,  4H050WB14 ,  4H050WB21 ,  4K011AA63 ,  4K011DA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 金属複合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-178163   出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒
• 含窒素多環式化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-178162   出願人：国立大学法人大阪大学, 株式会社日本触媒

引用文献：

審査官引用 (3件)

• RESISTRY(STN)[online][検索日:2023.10.4]
• Intermolecular interactions of extendedaromatic ligands: the synchrotron molecular structures of[Ru(
• One-Pot, High-Yielding, Oxidative Cyclodehydrogenation Route for N-Doped Nanographene Synthesis