特許
J-GLOBAL ID:202103004400673078
コバルト媒介ラジカル重合によるエチレンのブロック共重合
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山尾 憲人
, 西下 正石
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-554378
公開番号(公開出願番号):特表2021-507978
出願日: 2018年12月14日
公開日(公表日): 2021年02月25日
要約:
ポリエチレンブロックと、1つ以上のビニルモノマーであって、その少なくとも50モル%が、エチレン、ビニルエステル、非共役N-ビニルモノマー、アクリロニトリル、(メタ)アクリレート、および(メタ)アクリルアミドからなるリストから選択され、前記1つ以上のビニルモノマーの少なくとも1つがエチレンではないビニルモノマーの重合で形成されたブロックと、を含むブロックコポリマーの調製であって、該プロセスが、a.有機コバルト錯体の存在下でエチレンまたは前記1つ以上のビニルモノマーを重合し、それにより、マクロ開始剤を形成することと、b.該マクロ開始剤を、i.ステップaでエチレンが重合された場合、前記1つ以上のビニルモノマー、またはii.ステップaで前記1つ以上のビニルモノマーが重合された場合、エチレン、のいずれかと接触させ、それにより、第2のポリマーブロックを形成し、それにより、ブロックコポリマーを形成することと、を含み、ポリエチレンブロックを形成することが、1bar超の圧力下で実行される、調製。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ポリエチレンブロックと、重合された1つ以上のビニルモノマーであって、その少なくとも50モル%が、エチレン、ビニルエステル、非共役N-ビニルモノマー、アクリロニトリル、(メタ)アクリレート、および(メタ)アクリルアミドからなるリストから選択され、前記1つ以上のビニルモノマーの少なくとも1つがエチレンではないビニルモノマーから形成されたブロックと、を含むブロックコポリマーの調製のためのプロセスであって、該プロセスは、
a.有機コバルト錯体および
i.前記有機コバルト錯体がアルキル-コバルト付加物ではない場合、ラジカル重合のための開始剤、または
ii.前記有機コバルト錯体がアルキル-コバルト付加物である場合、任意に、ラジカル重合のための開始剤、の存在下で、単独のモノマーとしてエチレン、または前記1つ以上のビニルモノマー、のいずれかを重合し、
それにより、ポリエチレンまたは前記重合された1つ以上のビニルモノマーのいずれかで形成された第1のポリマーブロックを含むマクロ開始剤を形成することと、
b.該マクロ開始剤を、
i.ステップaでエチレンが重合された場合、前記1つ以上のビニルモノマー、または
ii.ステップaで前記1つ以上のビニルモノマーが重合された場合、エチレン、のいずれかと接触させ、
それにより、前記第1のポリマーブロックに結合された、前記重合された1つ以上のビニルモノマーまたはポリエチレンのいずれかで形成された第2のポリマーブロックを形成し、それにより、ブロックコポリマーを形成することと、を含み、ポリエチレンブロックを形成することが、1bar超の圧力下で実行される、プロセス。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (17件):
4J015DA09
, 4J015DA23
, 4J015EA07
, 4J026HA03
, 4J026HA10
, 4J026HA19
, 4J026HA20
, 4J026HA25
, 4J026HA32
, 4J026HA38
, 4J026HA39
, 4J026HB03
, 4J026HB38
, 4J026HB39
, 4J026HB46
, 4J026HB47
, 4J026HE01
引用特許:
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