特許
J-GLOBAL ID:202103004400673078

コバルト媒介ラジカル重合によるエチレンのブロック共重合

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山尾 憲人 ,  西下 正石
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-554378
公開番号(公開出願番号):特表2021-507978
出願日: 2018年12月14日
公開日(公表日): 2021年02月25日
要約:
ポリエチレンブロックと、1つ以上のビニルモノマーであって、その少なくとも50モル%が、エチレン、ビニルエステル、非共役N-ビニルモノマー、アクリロニトリル、(メタ)アクリレート、および(メタ)アクリルアミドからなるリストから選択され、前記1つ以上のビニルモノマーの少なくとも1つがエチレンではないビニルモノマーの重合で形成されたブロックと、を含むブロックコポリマーの調製であって、該プロセスが、a.有機コバルト錯体の存在下でエチレンまたは前記1つ以上のビニルモノマーを重合し、それにより、マクロ開始剤を形成することと、b.該マクロ開始剤を、i.ステップaでエチレンが重合された場合、前記1つ以上のビニルモノマー、またはii.ステップaで前記1つ以上のビニルモノマーが重合された場合、エチレン、のいずれかと接触させ、それにより、第2のポリマーブロックを形成し、それにより、ブロックコポリマーを形成することと、を含み、ポリエチレンブロックを形成することが、1bar超の圧力下で実行される、調製。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ポリエチレンブロックと、重合された1つ以上のビニルモノマーであって、その少なくとも50モル%が、エチレン、ビニルエステル、非共役N-ビニルモノマー、アクリロニトリル、(メタ)アクリレート、および(メタ)アクリルアミドからなるリストから選択され、前記1つ以上のビニルモノマーの少なくとも1つがエチレンではないビニルモノマーから形成されたブロックと、を含むブロックコポリマーの調製のためのプロセスであって、該プロセスは、 a.有機コバルト錯体および i.前記有機コバルト錯体がアルキル-コバルト付加物ではない場合、ラジカル重合のための開始剤、または ii.前記有機コバルト錯体がアルキル-コバルト付加物である場合、任意に、ラジカル重合のための開始剤、の存在下で、単独のモノマーとしてエチレン、または前記1つ以上のビニルモノマー、のいずれかを重合し、 それにより、ポリエチレンまたは前記重合された1つ以上のビニルモノマーのいずれかで形成された第1のポリマーブロックを含むマクロ開始剤を形成することと、 b.該マクロ開始剤を、 i.ステップaでエチレンが重合された場合、前記1つ以上のビニルモノマー、または ii.ステップaで前記1つ以上のビニルモノマーが重合された場合、エチレン、のいずれかと接触させ、 それにより、前記第1のポリマーブロックに結合された、前記重合された1つ以上のビニルモノマーまたはポリエチレンのいずれかで形成された第2のポリマーブロックを形成し、それにより、ブロックコポリマーを形成することと、を含み、ポリエチレンブロックを形成することが、1bar超の圧力下で実行される、プロセス。
IPC (2件):
C08F 293/00 ,  C08F 4/42
FI (2件):
C08F293/00 ,  C08F4/42
Fターム (17件):
4J015DA09 ,  4J015DA23 ,  4J015EA07 ,  4J026HA03 ,  4J026HA10 ,  4J026HA19 ,  4J026HA20 ,  4J026HA25 ,  4J026HA32 ,  4J026HA38 ,  4J026HA39 ,  4J026HB03 ,  4J026HB38 ,  4J026HB39 ,  4J026HB46 ,  4J026HB47 ,  4J026HE01
引用特許:
審査官引用 (7件)
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