特許

J-GLOBAL ID：202103004467577529

ジシラニルアミン及びポリシラニルアミンの合成

発明者： シャオビン・ヅォウ
出願人/特許権者： ナタ セミコンダクター マテリアルズ カンパニー リミテッド
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-530829
特許番号：特許第6917995号
出願日： 2016年12月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 シラニルアミン化合物を調製するためのプロセスであって、一般式 RR1N-(SixH2x+1) (I) の出発化合物を、一般式 R2R3NH (II) のアミン化合物と反応させて、一般式 R2mR3n-N(SixH2x+1)3-m-n (III) (式中、 R及びR1は、独立に、水素、6〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリール基、1〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基、又は5〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換シクロアルキル基であり、 R2及びR3は、式-SixH2x+1のシランであり、 xは、2〜10の整数であり、 m及びnは、0である) のシラニルアミン化合物を生成することを含む、プロセス。

IPC (1件)：

C07F 7/02 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C07F 7/02 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• アザ-ポリシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-130276   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド
• 絶縁膜または金属膜を形成する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-501371   出願人：レール・リキード-ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
• トリス(ジシラニル)アミン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2018-528601   出願人：ダウシリコーンズコーポレーション

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Journal of Inorganic and Nuclear Chemistry, 1961, 21, P.287-293