特許
J-GLOBAL ID:201503003266629801

アザ-ポリシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  出野 知 ,  関根 宣夫 ,  塩川 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-130276
公開番号(公開出願番号):特開2015-015465
出願日: 2014年06月25日
公開日(公表日): 2015年01月22日
要約:
【課題】ケイ素含有膜を形成するための前駆体及び方法を提供する。【解決手段】少なくとも2つのSi-N結合、少なくとも1つのSi-Si結合、及び少なくとも2つのSi-H2基を含み、次の式IA、IB及びICによって表わされる、少なくとも1種のアザ-ポリシラン前駆体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
少なくとも2つのSi-N結合、少なくとも1つのSi-Si結合、及び少なくとも2つのSi-H2基を含み、次の式IA、IB及びICによって表わされる、少なくとも1種のアザ-ポリシラン前駆体:
IPC (6件):
H01L 21/316 ,  H01L 21/318 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/455 ,  C08G 77/60
FI (6件):
H01L21/316 B ,  H01L21/318 B ,  H01L21/205 ,  C23C16/42 ,  C23C16/455 ,  C08G77/60
Fターム (65件):
4J246AA06 ,  4J246AA10 ,  4J246AA19 ,  4J246BB080 ,  4J246BB081 ,  4J246BB460 ,  4J246BB461 ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246FA561 ,  4J246GD08 ,  4J246GD09 ,  4J246HA63 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030JA10 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AA05 ,  5F045AA06 ,  5F045AA07 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AD04 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045EE19 ,  5F045EH18 ,  5F058BC02 ,  5F058BC04 ,  5F058BC08 ,  5F058BC10 ,  5F058BC11 ,  5F058BC20 ,  5F058BF02 ,  5F058BF03 ,  5F058BF04 ,  5F058BF05 ,  5F058BF06 ,  5F058BF07 ,  5F058BF22 ,  5F058BF29 ,  5F058BF30 ,  5F058BF37
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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