特許
J-GLOBAL ID:201503003266629801
アザ-ポリシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 関根 宣夫
, 塩川 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-130276
公開番号(公開出願番号):特開2015-015465
出願日: 2014年06月25日
公開日(公表日): 2015年01月22日
要約:
【課題】ケイ素含有膜を形成するための前駆体及び方法を提供する。【解決手段】少なくとも2つのSi-N結合、少なくとも1つのSi-Si結合、及び少なくとも2つのSi-H2基を含み、次の式IA、IB及びICによって表わされる、少なくとも1種のアザ-ポリシラン前駆体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
少なくとも2つのSi-N結合、少なくとも1つのSi-Si結合、及び少なくとも2つのSi-H2基を含み、次の式IA、IB及びICによって表わされる、少なくとも1種のアザ-ポリシラン前駆体:
IPC (6件):
H01L 21/316
, H01L 21/318
, H01L 21/205
, C23C 16/42
, C23C 16/455
, C08G 77/60
FI (6件):
H01L21/316 B
, H01L21/318 B
, H01L21/205
, C23C16/42
, C23C16/455
, C08G77/60
Fターム (65件):
4J246AA06
, 4J246AA10
, 4J246AA19
, 4J246BB080
, 4J246BB081
, 4J246BB460
, 4J246BB461
, 4J246CA01X
, 4J246CA010
, 4J246FA561
, 4J246GD08
, 4J246GD09
, 4J246HA63
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA13
, 4K030AA14
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030BA40
, 4K030BA44
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA03
, 4K030FA01
, 4K030FA10
, 4K030HA01
, 4K030JA10
, 4K030LA15
, 5F045AA04
, 5F045AA05
, 5F045AA06
, 5F045AA07
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AB34
, 5F045AC07
, 5F045AC11
, 5F045AC12
, 5F045AC15
, 5F045AC16
, 5F045AC17
, 5F045AD04
, 5F045AD05
, 5F045AD06
, 5F045EE19
, 5F045EH18
, 5F058BC02
, 5F058BC04
, 5F058BC08
, 5F058BC10
, 5F058BC11
, 5F058BC20
, 5F058BF02
, 5F058BF03
, 5F058BF04
, 5F058BF05
, 5F058BF06
, 5F058BF07
, 5F058BF22
, 5F058BF29
, 5F058BF30
, 5F058BF37
引用特許:
引用文献:
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