特許

J-GLOBAL ID：202103005087802550

アルカリ可溶性樹脂および架橋剤を含んでなるネガ型リフトオフレジスト組成物、並びに基板上に金属膜パターンを製造する方法

発明者： 片山 朋英 ,  矢野 友嗣 ,  久保 雅彦
出願人/特許権者： メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
代理人 (4件)： 中村 行孝 ,  朝倉 悟 ,  前川 英明 ,  遠藤 逸子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-532962
公開番号（公開出願番号）：特表2021-508072
出願日： 2018年12月20日
公開日（公表日）： 2021年02月25日
要約：

【課題】微細なレジストパターンを形成し、これを保持できるレジスト組成物を提供することを目的とする。別の目的は、組成物から作成されたレジストパターンの欠陥を低減させることができるネガ型リフトオフレジスト組成物を提供することである。そして、別の目的は、組成物から作成されたレジストパターンの剥離性が良好であるネガ型リフトオフレジスト組成物を提供することである。【解決手段】本発明は、アルカリ可溶性樹脂および架橋剤を含んでなるネガ型リフトオフレジスト組成物を提供する。そして、本発明は、基板上に金属膜パターンを製造する方法を提供する。本発明は、金属膜パターンを製造する方法を含んでなる、素子を製造する方法を提供する。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)下記式(1)で表される架橋剤、および(C)下記式(2)で表される架橋剤を含んでなる、ネガ型リフトオフレジスト組成物。 ここで、

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/20

FI (6件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/26 513 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521

Fターム (22件)：

2H196AA25 ,  2H196BA06 ,  2H196HA28 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA10 ,  2H197CE01 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H225AE03P ,  2H225AE05P ,  2H225AF24P ,  2H225AF44P ,  2H225AF83P ,  2H225AM13P ,  2H225AM15P ,  2H225AN39P ,  2H225BA32P ,  2H225CA12 ,  2H225CB08 ,  2H225CC01 ,  2H225CC17

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 化学増幅型ネガ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-511025   出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• ネガ型感光性樹脂組成物、それを用いたネガ型パターンの形成方法、回路基板材料および回路基板用カバーレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-013048   出願人：三井化学株式会社
• レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-177031   出願人：富士通株式会社
• 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、半導体素子、プリント配線板および電子部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-211107   出願人：太陽ホールディングス株式会社
• ネガ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-044553   出願人：住友化学工業株式会社